| 研究課題/領域番号 |
19560725
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 静岡大学 |
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研究代表者 |
奥谷 昌之 静岡大学, 工学部, 准教授 (00293605)
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| 研究分担者 |
村上 健司 静岡大学, 電子工学研究所, 准教授 (30182091)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2008年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2007年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | 沿面放電 / プラズマ / ダイレクトパターニング / 酸化亜鉛 / 薄膜 / プラズマ処理 / レーザー加工 |
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| 研究概要 |
本研究では平面プラズマを利用したナノ構造物の形成および薄膜のダイレクトパターニング形成を試みる。プラズマは局所的に平面状に照射させることができ、基板自体は加熱されない特徴があるため、プラスチック等の低融点基板への適用も可能である。具体的には、有機・無機金属塩やコロイドをテンプレート用基板に塗布後、放電電極と重ねてプラズマを照射することで、照射部分のみを結晶化させる。未反応部分を水で洗浄後、電極と同じパターン化された膜が残留してダイレクトパターニング製膜が完成する。
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