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ワイドギャップ半導体ヘテロ接合における電荷移送ドーピング法の開発

研究課題

研究課題/領域番号 19656183
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 構造・機能材料
研究機関独立行政法人物質・材料研究機構

研究代表者

小出 康夫  独立行政法人物質・材料研究機構, センサ材料センター, グループリーダー (70195650)

研究分担者 井村 将隆  独立行政法人物質・材料研究機構, センサ材料センター, NIMSポスドク研究員 (80465971)
研究期間 (年度) 2007 – 2008
研究課題ステータス 完了 (2008年度)
配分額 *注記
3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
2008年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
2007年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
キーワードダイヤモンド / 窒化アルミニウム / ヘテロ接 / MOVPE / バンド不連 / p型ドーパント / ヘテロ接合 / バンド不連続
研究概要

本萌芽研究の目的は、ダイヤモンド半導体内に室温において十分なキャリアを発生させる手法として、窒化物半導体/ダイヤモンド・ヘテロ接合を提案し、十分なキャリア濃度制御性の可能性を実験的に探索することが目標である。最終年度は昨年度の結果を踏まえて、以下のことがわかった。
(1)ダイヤモンド(100)および(111)単結晶基板上に有機金属化合物気相成長(MOVPE)法を用いて,AlN薄膜のエピタキシャル成長を行い、急峻なダイヤモンド/AlN界面を持つエピタキシャル薄膜を得ることに成功した。
(2)X線回折法および電子顕微鏡観察による微細構造解析から、エピタキシャル方位関係およびAlN薄膜の結晶学的構造を以下の通り決定した。
(3)(100)面上では成長初期に不均一方位の結晶粒が形成され、成長とともに(0001)AlN結晶粒が優先的に成長し、最終的に等価な方位関係を持つ<10<1>^^-0>AlNまたは<11<2>^^-0>AlN//[110]diamondなる二つのドメイン構造となることがわかった。
(4)(111)面上では成長初期に等価な2つの(0001)AlN結晶粒(<11<2>^^-0>AlN,<10<1>^^-0>AlN||(111)[1<1>^^-0]diamond)が形成され、最終的には(0001)<11<2>^^-0>AlN結晶方位関係からなる単結晶AlN薄膜が形成されることがわかった。
(5)以上ダイヤモンド/AlN界面でのキャリア輸送には、ダイヤモンド(111)面上に成長させたAlNが最適であることが判明した。

報告書

(2件)
  • 2008 実績報告書
  • 2007 実績報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて 2009 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (1件)

  • [雑誌論文] Growth mechanism of c-axis oriented AlN on (001) diamond substrates by metal-organic vapor phase epitaxy

    • 著者名/発表者名
      Masataka Imura
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] MOVPE法によるダイヤモンド基板上の窒化アルミニウムの成長2009

    • 著者名/発表者名
      井村将隆
    • 学会等名
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学,茨城県つくば市
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書

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公開日: 2007-04-01   更新日: 2016-04-21  

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