| 配分額 *注記 |
25,220千円 (直接経費: 19,400千円、間接経費: 5,820千円)
2009年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2008年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2007年度: 14,560千円 (直接経費: 11,200千円、間接経費: 3,360千円)
|
|---|
| 研究概要 |
窒素分子(N2)を構成要素とする特異錯体ポリマー合成法を新たに開発するため,N2と金属錯体の反応性を検討し,それを基盤として対応する高分子を合成した.ビスピンサー型のイリジウムおよびロジウム錯体とN2との反応により得られたN2含有錯体ポリマーは,一般の溶媒に不溶であったが,赤外吸収スペクトルより生成物中にN2分子が導入されていることが確認された.
|
