ナノリソグラフィ時代における設計自動化に関する研究

• 研究課題/領域番号: 19700049
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 計算機システム・ネットワーク
• 研究機関: 豊橋技術科学大学
• 研究代表者: 杉原 真 豊橋技術科学大学, 工学部, 講師 (80373538)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2008
• 研究課題ステータス: 完了 (2008年度)
• 配分額: 3,660千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 360千円); 2008年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円); 2007年度: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
• キーワード: 設計自動化 / 電子ビーム直描 / フォトマスク製造 / 部分一括描画 / 可変成に描画 / 描画スループット / 少量多品種 / CPアパーチャマスク / マルチカラムセル / 可変成型ビーム / スループット / NREコスト / 少量多品種生産

研究概要

本研究課題においては、集積回路製造において重要な電子線描画技術におけるコストを削減すべく、電子線描画時間を削減する集積回路設計自動化技術を確立した。単一カラムセル描画(SCC)装置装置、及び複数カラムセル(MCC)描画装置において、CPアパーチャ・マスク、及びキャラクタの大きさを最適にし、電子線描画時間を最小化する技術を確立した。また、SCC描画装置及びMCC描画装置に対する論理合成技術を確立し、集積回路の性能、及び製造コストの間のトレードオフを図ることを可能にした。

研究成果

• [雑誌論文] Character projection mask set optimization for enhancing throughput of MCC projection systems (2008)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara, Y. Matsunaga, and K. Murakami
  • 雑誌名: IEICE Transactions on Fundamentals of Electronics, Communications and Computer Sciences Vol. E91-A, No. 12 ページ: 3451-3460
  • NAID: 10026853791
  • 査読あり
• [雑誌論文] Character projection mask set optimization for enhancing throughput of MCC projection systems (2008)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara, Y. Matsunaga, and K. Murakami
  • 雑誌名: IEICE Transactions on Fundamentals of Electronics, Communications and Computer Sciences E91-A ページ: 3451-3460
  • NAID: 10026853791
  • 査読あり
• [雑誌論文] Technology mapping technique for increasing throughput of character projection lithography (2007)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara, K. Nakamura, Y. Matsunaga, and K. Murakami
  • 雑誌名: IEICE Transactions on Electronics Vol. E90-C, No. 5 ページ: 1012-1020
  • NAID: 110007519668
  • 査読あり
• [雑誌論文] 部分一括描画装置の処理能力の向上のための描画面積最適化 (2007)
  • 著者名/発表者名: 杉原真, 松永裕介, 村上和彰
  • 雑誌名: 情報処理学会論文誌 第48巻5号 ページ: 1888-1897
  • 査読あり
• [雑誌論文] Technology mapping technique for increasing throughput of character projection lithography (2007)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara, K. Nakamura, Y. Matsunaga, and K. Murakami
  • 雑誌名: IEICE Transactions on Electronics Vol. E90-C ページ: 1012-1020
  • NAID: 110007519668
  • 査読あり
• [雑誌論文] 部分一括描画装置の処理能力の向上のための描画面積最適化 (2007)
  • 著者名/発表者名: 杉原真, 松永裕介, 村上和彰
  • 雑誌名: 情報処理学会論文誌 第48巻 ページ: 1888-1897
  • 査読あり
• [学会発表] Optimal character-size exploration for increasing throughput of MCC lithographic systems (2009)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara
  • 学会等名: SPIE Advanced Lithography
  • 発表場所: San Jose Convention Center, San Jose, CA, USA
  • 年月日: 2009-02-24
• [学会発表] Optimal character-size exploration for increasing throughput of MCC lithographic systems (2009)
  • 著者名/発表者名: M. Sugihara
  • 学会等名: P Proc. SPIE Vol. 7271 : Alternative Lithographic Technologies, 72710L