| 研究課題/領域番号 |
19710091
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 名古屋大学 |
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研究代表者 |
渕 真悟 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 助教 (60432241)
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| 研究協力者 |
吉田 健太 名古屋大学, 大学院・工学研究科・結晶材料工学専攻, 大学院生
吉岡 毅 名古屋大学, 工学部・物理工学科, 大学生
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
3,750千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 450千円)
2008年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2007年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
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| キーワード | 量子ドット / 液滴エピタキシー / 結晶成長 / ナノバイオ / In コアフェリチン / 結晶工学 |
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| 研究概要 |
本研究では、「In コアフェリチンのGaAs 基板への吸着」、「タンパク質殻の除去」、「In コアのAs 化」の各プロセスを検討した。In コアフェリチン溶液をGaAs 基板に滴下しN2 ガンで乾燥させることによって、GaAs 基板上への吸着に成功した。UV/O_3 処理によりタンパク質殻の除去を実現した。In_2O_3 をH_2 雰囲気下で熱処理をおこなうことによって、In に還元されることを確認した。そして、すべてのプロセスを施すことによって、In コアフェリチンに由来するナノ構造の形成と発光を得た。
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