| 研究課題/領域番号 |
19710095
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
岡本 一将 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (10437353)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
2,760千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 360千円)
2008年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2007年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
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| キーワード | リソグラフィ / レジスト / 電子線 / パルスラジオリシス / 芳香族分子 / 分子軌道計算 / ポリスチレン |
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| 研究概要 |
半導体加工用に用いられている化学増幅型レジストは、露光源の発展に伴いその最小加工寸法が縮小している。将来の更なる加工寸法の縮小に向けて、放射線を露光源とすることが想定されているが、極微細加工用レジスト材料におけるゆらぎ(ラフネス)の低減は深刻な問題となっている。ラフネスをナノサイズに低減するために、レジスト中にイオン化後生成する、中間活性種の分子レベルのダイナミクスと反応機構を明らかにすることを目的とした。
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