| 研究課題/領域番号 |
19740247
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
原子・分子・量子エレクトロニクス・プラズマ
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| 研究機関 | 奈良女子大学 |
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研究代表者 |
石井 邦和 奈良女子大学, 理学部, 助教 (00397837)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
3,870千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 570千円)
2009年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2008年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2007年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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| キーワード | PIXE / ガラスキャピラリ / マイクロイオンビーム / 二次粒子収量 / MeVイオンビーム / RBS |
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| 研究概要 |
イオンビーム照射による液体を含む様々な物質からの二次粒子収量測定を最終的な目的として研究を行った。まずキャピラリによるイオンビーム細径化を行うために引き出したイオンビームのサイズ分布を測定した。ガラスキャピラリーを用いた場合に引き出したイオンビームにハロー成分が含まれていたため、メタルキャピラリによるイオンビーム引き出し技術を開発した。またこのキャピラリを用いて大気圧物質分析技術の開発も行った。二次粒子収量測定に関してはこれからの課題となってしまったが、素性の良いイオンビーム引き出し技術を開発できたことに本研究の意義がある。
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