| 研究課題/領域番号 |
19760029
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
藤原 幸雄 独立行政法人産業技術総合研究所, 計測フロンティア研究部門, 研究員 (60415742)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
2,910千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 210千円)
2008年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2007年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
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| キーワード | ビーム応用 / 二次イオン質量分析法(SIMS) / クラスタービーム / 大質量陰イオン / 負イオンビーム / 二次イオン質量分析 / SIMS / クラスター |
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| 研究概要 |
イオン性の化合物を溶液中に溶解し、陰イオンとして存在するイオン種をビーム化する技術に関して研究を実施した。具体的には、イオン性の化合物を有機溶媒中に溶解し、電離状態のイオン種を気相中に取り出すことを試みた。導電性キャピラリー内部に試料溶液を送液し、高電圧を印加した際に気相中に放出されるイオン電流を調べた。結果として、負イオンモードにおいて安定なビーム生成が可能であり、二次イオン質量分析(SIMS)に応用可能であることを確かめることができた。
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