| 研究課題/領域番号 |
19760229
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
山本 修一郎 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 助教 (50313375)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
3,780千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 480千円)
2009年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2008年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2007年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
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| キーワード | マイクロプロセッサ / 動的再構成論理回路 / 不揮発性メモリ / 電源遮断 / 低消費電力 |
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| 研究概要 |
高性能かつ超低消費電力のマイクロプロセッサの開発を目的として、新規不揮発性メモリ回路の提案、詳細な回路設計と回路シミュレータによる評価を行った。また、限られた面積で複数の演算処理が高速に達成できる動的再構成可能プロセッサの設計を行い、不揮発性メモリ回路を動的再構成可能プロセッサ内で使用する方法について検討を行った。以上により、不揮発性メモリ内蔵型超低消費電力動的再構成可能マイクロプロセッサの礎を築くことができた。
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