| 研究課題/領域番号 |
19760498
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
構造・機能材料
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| 研究機関 | 独立行政法人理化学研究所 |
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研究代表者 |
小林 知洋 独立行政法人理化学研究所, 山崎原子物理研究室, 専任研究員 (40282496)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
3,350千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 450千円)
2009年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2008年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2007年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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| キーワード | プラズマイオン注入 / 細胞接着 / 生体適合性 / シリコーン / 炭素化 / PBII / PTFE / ダイヤモンドライクカーボン / フッ素化ダイヤモンドライクカーボン |
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| 研究概要 |
高分子の弾力性、化学的安定性を保持したまま、表面改質により生体適合性を向上させる手法として、プラズマイオン注入(Plasma Based Ion Implantation, PBII)法に着目した。シリコーンに対してPBIIを施し、表面組成および形状の変化、細胞接着率の変化について調べた。表面は照射電圧の上昇に伴い本来の構造が減少し、アモルファス炭素となった。イオン照射により細胞接着率と細胞増殖率は顕著に向上し、本手法の有効性が示された。一方、高電圧側では改質効果が減少した。細胞接着率と増殖率の双方から判断すると最適処理電圧は2.5~5kVの間であった。
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