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準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 19H00761
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分21:電気電子工学およびその関連分野
研究機関関西学院大学 (2020-2021)
福井大学 (2019)

研究代表者

葛原 正明  関西学院大学, 工学部, 教授 (20377469)

研究分担者 ASUBAR JOEL  福井大学, 学術研究院工学系部門, 准教授 (10574220)
分島 彰男  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (80588575)
只友 一行  山口大学, その他部局等, 名誉教授 (10379927)
研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2022-03-31
研究課題ステータス 完了 (2021年度)
配分額 *注記
45,500千円 (直接経費: 35,000千円、間接経費: 10,500千円)
2021年度: 12,740千円 (直接経費: 9,800千円、間接経費: 2,940千円)
2020年度: 16,380千円 (直接経費: 12,600千円、間接経費: 3,780千円)
2019年度: 16,380千円 (直接経費: 12,600千円、間接経費: 3,780千円)
キーワード準ミリ波 / HEMT / AlGaN/GaN / 電力増幅器 / 無線電力伝送 / 破壊電界 / 電力利得 / トランジスタ / 窒化物半導体 / 高出力 / 高電子移動度トランジスタ / 電力増幅 / 耐圧
研究開始時の研究の概要

本研究の概要は、24 GHz帯(免許不要の産業・科学・医療バンド)の準ミリ波帯で電力増幅が可能な小型の高出力GaNトランジスタの開発を行う研究である。
GaNの理想の破壊電界強度3.3 MV/cmに近い絶縁特性を得るべく、半絶縁性GaN基板の上にトランジスタを作製し、その基本構造は、AlGaN/GaNヘテロ接合上に形成したサブミクロン長のゲート電極をもつ高電子移動度トランジスタ(HEMT)とする。開発するトランジスタの目標性能は、準ミリ波帯で無線電力伝送実験が可能となるよう、電力利得6 dB以上で出力電力10 W以上(出力電力密度5 W/mm以上)とする。

研究成果の概要

本研究では無線電力伝送応用を目指した電力増幅器の研究開発を推進した。大電力動作が可能な絶縁膜(MOS)ゲートをもつGaN-HEMTを検討した。この結果、MOSゲートHEMTにおいて、印加バイアス20-50Vの広い範囲で高周波利得が4~5dB改善できることを確認した。等価回路解析からMOSゲートHEMTの電圧利得(gm/gd)が従来HEMTより2.5~3倍向上していることを確認した。また半絶縁性GaN基板の絶縁破壊電界の向上を進め、Fe添加により最大2 MV/cmを超える絶縁破壊電界を達成した。これら知見をもとに半絶縁性GaN基板上の24GHz帯増幅器の設計を完了しデバイス試作を実施した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

エネルギー自給率の向上を目指して再生可能エネルギーの開発と省エネ化が急務である。この解決策として無線電力伝送を用いた太陽光や洋上風力発電の推進が望まれる。本研究では、準ミリ波帯で動作する高出力動作可能なMOSゲートGaN-HEMTを開発する。またMOSゲートGaN-HEMTが従来HEMTに比べて高利得を示す要因を解明する。さらに高電圧HEMT動作をめざして、半絶縁性GaN基板の実効破壊電界強度の向上を推進し世界最高性能の実現をめざす。本研究で開発する技術は無線電力伝送に用いる電力増幅器の回路設計性を容易にし、アンテナやシステムの小型化など回路応用の汎用性を広げる利点を社会に提供できる。

報告書

(5件)
  • 2021 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2020 実績報告書
  • 2019 審査結果の所見   実績報告書
  • 研究成果

    (32件)

すべて 2022 2021 2020 2019 その他

すべて 雑誌論文 (8件) (うち国際共著 3件、 査読あり 8件、 オープンアクセス 3件) 学会発表 (23件) (うち国際学会 17件、 招待講演 3件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Generalized Frequency Dependent Small Signal Model for High Frequency Analysis of AlGaN/GaN MOS-HEMTs2021

    • 著者名/発表者名
      Aakash Jadhav, Takashi Ozawa, Ali Baratov, Joel T. Asubar, Masaaki Kuzuhara, Akio Wakejima, Shunpei Yamashita, Manato Deki, Yoshio Honda, Sourajeet Roy, Hiroshi Amano, Biplab Sarkar
    • 雑誌名

      IEEE Journal of Electron Devices

      巻: 9 ページ: 570-581

    • DOI

      10.1109/jeds.2021.3081463

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Stoichiometric imbalances in Mg-implanted GaN2021

    • 著者名/発表者名
      Kai C Herbert, Kazuki Shibata, Joel T Asubar, Masaaki Kuzuhara
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 60 号: 6 ページ: 066504-066504

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac0248

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] 1. Modified Small Signal Circuit of AlGaN/GaN MOS-HEMTs Using Rational Functions2021

    • 著者名/発表者名
      Aakash Jadhav, Takashi Ozawa, Ali Baratov, Joel T Asubar, Masaaki Kuzuhara, Akio Wakejima, Shunpei Yamashita, Manato Deki, Shugo Nitta, Yoshio Honda, Hiroshi Amano, Sourajeet Roy, Biplab Sarkar
    • 雑誌名

      EEE Transactions on Electron Devices

      巻: 68 号: 12 ページ: 6059-6064

    • DOI

      10.1109/ted.2021.3119528

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] GaN-based MIS-HEMTs with Al2O3 dielectric deposited by low-cost and environmental-friendly mist-CVD technique2021

    • 著者名/発表者名
      Rui Shan Low, Joel T. Asubar, Ali Baratov, Shunsuke Kamiya, Itsuki Nagase, Shun Urano, Shinsaku Kawabata, Hirokuni Tokuda, Masaaki Kuzuhara, Yusui Nakamura, Kenta Naito, Tomohiro Motoyama, Zenji Yatabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 14 号: 3 ページ: 031004-031004

    • DOI

      10.35848/1882-0786/abe19e

    • NAID

      120007160996

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Enhancement-Mode AlGaN/GaN MIS-HEMTs With High VTH and High IDmax Using Recessed-Structure With Regrown AlGaN Barrier2020

    • 著者名/発表者名
      Joel T. Asubar, Shinsaku Kawabata, Hirokuni Tokuda, Akio Yamamoto, and Masaaki Kuzuhara
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 41 号: 5 ページ: 693-696

    • DOI

      10.1109/led.2020.2985091

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Design considerations for normally-off operation in Schottky gate p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs2020

    • 著者名/発表者名
      Hirokuni Tokuda, Joel T. Asubar, Masaaki Kuzuhara
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: 8 ページ: 084002-084002

    • DOI

      10.35848/1347-4065/aba329

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Enhancement‐Mode AlGaN/GaN Vertical Trench Metal-Insulator-Semiconductor High‐Electron‐Mobility Transistors with a High Drain Current Fabricated Using the AlGaN Regrowth Technique2020

    • 著者名/発表者名
      Akio Yamamoto, Keito Kanatani, Norifumi Yoneda, Joel, T. Asubar, Hirokuni Tokuda, and Masaaki Kuzuhara
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi A

      巻: 217 号: 7 ページ: 19006221-7

    • DOI

      10.1002/pssa.201900622

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of reactive-ion-etching depth on interface properties in Al2O3/n-GaN MOS diodes2019

    • 著者名/発表者名
      Hirokuni Tokuda, Sayaka Harada, Joel T. Asubar, and Masaaki Kuzuhara
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 10 ページ: 1065031-6

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab3d11

    • NAID

      210000156988

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Characterization of mist-Al2O3 gate insulator and its applications in mist-Al2O3/AlGaN/GaN MOS-HEMTs2022

    • 著者名/発表者名
      T. Motoyama, S. Urano, A. Baratov, Y. Nakamura, M. Kuzuhara, J. T. Asubar, Z. Yatabe
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] AlGaN/GaN MIS-HEMTs with mist- and ALD Al2O3 gate dielectric2022

    • 著者名/発表者名
      S. Urano, J. T. Asubar, R. S. Low, F. Muhammad, M. Ishiguro, I. Nagase, A. Baratov, T. Motoyama, Y. Nakamura, M. Kuzuhara, Z. Yatabe
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] Enhanced gain characteristics of AlGaN/GaN MOS-HEMTs with Al2O3 gate dielectric2021

    • 著者名/発表者名
      K. Shibata, K. C. Herbert, A. Baratov, J. T. Asubar, A. Wakejima, M. Kuzuhara
    • 学会等名
      2021 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Electrical properties of GaN-based MIS-HEMTs with Al2O3 gate insulator deposited by ALD and mist-CVD techniques2021

    • 著者名/発表者名
      S. Urano, R. S. Low, M. Faris, M. Ishiguro, I. Nagase, A. Baratov, J. T. Asubar, T. Motoyama, Y. Nakamura, Z. Yatabe, M. Kuzuhara
    • 学会等名
      2021 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Mist chemical vapor deposited-Al2O3/AlGaN interfacial characterization for GaN MIS-HEMTs2021

    • 著者名/発表者名
      T. Motoyama, Z. Yatabe, Y. Nakamura, A. Baratov, R. S. Low, S. Urano, J. T. Asubar, M. Kuzuhara
    • 学会等名
      2021 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Fabrication and Characterization of ZrO2/AlGaN/GaN MIS-HEMTs with regrown AlGaN Layer2021

    • 著者名/発表者名
      S. Maeda, I. Nagase, A. Baratov, S. Urano,J. T. Asubar, A. Yamamoto, M. Kuzuhara
    • 学会等名
      2021 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Recessed gate GaN-based MIS-HEMTs with Al2O3 gate dielectric deposited by mist-CVD method2021

    • 著者名/発表者名
      M. Ishiguro, S. Urano, R. S. Low, M. Faris, I. Nagase, A. Baratov, J. T. Asubar, T. Motoyama, Y. Nakamura, Z. Yatabe, M. Kuzuhara
    • 学会等名
      2021 IEEE International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] GaN HEMT technology for low-loss and high-voltage applications2021

    • 著者名/発表者名
      Masaaki Kuzuhara
    • 学会等名
      Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2021)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] GaNへのMgイオン注入におけるN原子の影響2021

    • 著者名/発表者名
      ハーバート 甲斐, 柴田 和樹, ジョエル・アスバル, 葛原 正明
    • 学会等名
      応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Effect of recoil-implanted N atoms on defect formation in Mg-implanted GaN2020

    • 著者名/発表者名
      Kai C. Herbert, Kazuki Shibata, Joel. T. Asubar, Masaaki Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2020 Satellite event
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Normally-off recessed-gate ZrO2/AlGaN/GaN MIS-HEMTs with regrown AlGaN barrier2020

    • 著者名/発表者名
      Itsuki Nagase, Joel T. Asubar, Rui Shan Low, Shun Urano, Hirokuni Tokuda, Akio Yamamoto, Masaaki Kuzuhara
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effect of post-metallization annealing on properties of ZrO2/regrown-AlGaN/GaN structures2020

    • 著者名/発表者名
      Shun Urano, Joel T. Asubar, Itsuki Nagase, Rui Shan Low, Shunsuke Kamiya, Ali Baratov, Hirokuni Tokuda, Akio Yamamoto, Masaaki Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2020 Satellite event
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Improved interfaces of high-k ZrO2 and AlGaN via ex-situ MOVPE regrowth2020

    • 著者名/発表者名
      Itsuki Nagase, Joel T. Asubar, Rui Shan Low, Shun Urano, Shunsuke Kamiya, Ali Baratov, Hirokuni Tokuda, Akio Yamamoto, Masaaki Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2020 Satellite event
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] AlGaN/GaN SG-HEMT と比べてMIS-HEMT の優れた高周波特性に関する研究2020

    • 著者名/発表者名
      バラトフ アリ, 小澤渉至, 山下隼平, Joel T. Asubar, 徳田 博邦, 葛原 正明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 電子部品・材料研究会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Improved insulator/semiconductor interfaces in Al2O3/AlGaN/GaN structures by AlGaN layer regrowth2019

    • 著者名/発表者名
      S. Kawabata, J. T. Asubar, H. Tokuda, A. Yamamoto, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      Compound Semiconductor Week 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Improved on-state breakdown characteristics in AlGaN/GaN MOS-HEMTs with a gate field plate2019

    • 著者名/発表者名
      T. Nishitani, R. Yamaguchi, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhata
    • 学会等名
      Compound Semiconductor Week 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Impact of regrown AlGaN layer on the properties of Al2O3/AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor structures2019

    • 著者名/発表者名
      J. T. Asubar, S. Kawabata, L. R. Shan, H. Tokuda, A. Yamamoto, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      43rd Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits held in Europe (WOCSDICE 2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Vertical GaN MOSFETs with a regrown AlGaN barrier layers2019

    • 著者名/発表者名
      M. Kuzuhara and A. Yamamoto
    • 学会等名
      EMN Epitaxy 2019, A39, Amsterdam, Netherland
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] GaN-on-GaN HEMTs with high breakdown critical fields2019

    • 著者名/発表者名
      A. Aoai, K. Suzuki, A. Tamamoto, J. T. Asubar, H. Tokuda, N. Okada, K. Tadatomo, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      Topical Workshop on Heterostructure Microelectronics 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Impact of SiN capping during ohmic annealing on performance of GaN-based MIS HEMTs2019

    • 著者名/発表者名
      L. S. Low, S. Kawabata, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Sub-micron gate fabrication process for AlGaN/GaN HEMTs2019

    • 著者名/発表者名
      A. Baratov, T. Ozawa, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study on luminescence and leakage current of AlGaN/GaN HEMTs biased near off-state breakdown2019

    • 著者名/発表者名
      S. Kamiya, T. Nishitani, J. T. Asubar, H. Tokuda, and M. Kuzuhara
    • 学会等名
      IEEE IMFEDK 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] High-breakdown voltage GaN HEMTs fabricated on semi-insulating GaN substrates2019

    • 著者名/発表者名
      M. Kuzuhara, J. T. Asubar, and H. Tokuda
    • 学会等名
      Proc. SSLCHINA & IFWS 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 招待講演
  • [備考] Database of Researchers

    • URL

      http://researchers.kwansei.ac.jp/view?l=ja&u=200001196&sn=7&sm=sdgs&sl=ja&sp=1

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書

URL: 

公開日: 2019-04-18   更新日: 2023-01-30  

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