| 研究課題/領域番号 |
19H02046
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分18020:加工学および生産工学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
鈴木 健太 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (60709509)
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| 研究分担者 |
Youn SungーWon 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (80510065)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2021年度)
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| 配分額 *注記 |
17,680千円 (直接経費: 13,600千円、間接経費: 4,080千円)
2021年度: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2020年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2019年度: 8,970千円 (直接経費: 6,900千円、間接経費: 2,070千円)
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| キーワード | ナノインプリント / NIL / スループット / 凝縮性ガス / 微小液滴 / リソグラフィ / 光ナノインプリント / 充填 / ナノパターン / 飽和蒸気圧 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
光ナノインプリントは最先端リソグラフィへの応用が検討されており、更なるプロセスの高速化や低欠陥化が求められている。ハイドロフルオロオレフィン系の飽和蒸気圧の異なる凝縮性ガスを混合導入するナノインプリント手法は、低欠陥で高品質なパターニングと樹脂の充填の超高速化の可能性があり、本研究では、インクジェットによる微小液滴に対して本手法の適用性を示すことにより、超高速の光ナノインプリントリソグラフィの実現を目指す。
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| 研究成果の概要 |
微小液滴を利用した光ナノインプリントリソグラフィ（UV-NIL）は次世代リソグラフィとして期待されているが、スループットが課題である。トランス-1-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペン(CTFP) とトランス-1,3,3,3-テトラフルオロプロペン(TFP)ガスを導入するUV-NILは、高スループット化の可能性を秘めている。本研究では、微小液滴を利用したUV-NILに対して混合凝縮性ガスを導入するプロセスを試みた。局所的な樹脂充填の評価では、従来のヘリウムガス下に比べて1/30の充填時間を示した。また、線幅12nmの微細パターンの解像を実証した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究課題は、次世代半導体のリソグラフィ技術の一つであるナノインプリントリソグラフィに係わる研究内容である。ナノインプリントの課題である樹脂充填の高速化に着目し、混合凝縮性ガスを導入するナノインプリント技術を開発し、課題解決の糸口を示した。本研究成果は、半導体分野のみならず、ナノ加工技術の発展につながると期待される。
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