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フレキシブル高効率太陽電池の創出に向けたモノライク赤外光吸収層の開発

研究課題

研究課題/領域番号 19J21034
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
審査区分 小区分30010:結晶工学関連
研究機関筑波大学

研究代表者

今城 利文  筑波大学, 数理物質科学研究科, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2019-04-25 – 2022-03-31
研究課題ステータス 完了 (2021年度)
配分額 *注記
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2021年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2020年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2019年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワード薄膜 / Ge / 多結晶 / 絶縁体 / 低温 / 高移動度
研究開始時の研究の概要

ユビキタス・エネルギー社会の実現には、高い変換効率をもちながらどこにでも設置できる太陽電池の開発が求められる。軽くて柔らかいプラスチック上へ多接合太陽電池を展開すれば、高効率・汎用性・低コストを両立する革新的太陽電池が実現可能である。本研究では、高品質なモノライク結晶Geのプラスチック合成技術、および太陽電池プロセス技術の確立により、プラスチック上Ge層で実用レベルの分光感度を得ることを目的とする。

研究実績の概要

本研究では、高効率を誇る多接合太陽電池の汎用性を高めるため、基板に用いる単結晶Geウェハをプラスチック上のGe薄膜に代替することを目的とする。最終年度となる本年度は、主に以下の成果が得られた。
①我々は固相成長法の高度化により、従来法よりも2桁の大粒径化(~10 μm)を達成するとともに、Ge薄膜の正孔密度を1E17 cm-3まで低減した。しかし、光生成キャリアの取り出しには多数キャリアの更なる低減が望ましい。従って、多結晶Ge薄膜におけるアクセプタの起源を調査した。機械学習に基づいた新しい解析法を提案し、多結晶Ge薄膜では、室温における正孔が粒内・粒界双方から生じることを見出した。
②上記解析により見出したアクセプタ欠陥の低減のために、Sn添加とH2プラズマ処理を検討した。その結果、補償効果により前者では1桁、後者では2桁の正孔低減を達成し、最終的に2×10E15 cm-3という極めて低い値と成った。これは、膜中欠陥が少なく高品質なGe薄膜が得られたことを示す。
③先ず、n型Si基板上にGeOx下部層を1 nm挿入することで恣意的にエピタキシャル関係を断ち、固相成長Ge薄膜を合成し、太陽電池を試作した。その結果、多結晶Ge薄膜に起因した分光感度スペクトルを得た。すなわち、絶縁体基板上で優れた分光感度を得るには急峻なp/n接合が望ましいことが判明した。本知見を基に絶縁体基板上の固相成長Ge薄膜に立ち返った。リン拡散材を用いて適切なRTA処理を行い、膜表面のみをn型化することで、SiO2ガラス上に合成した固相成長Ge薄膜由来の明瞭な分光感度(15 mA/W)を実証した。全プロセスがプラスチック基板の耐熱温度以下で行える事実は、フレキシブル太陽電池応用へのポテンシャルを充分に示したと考えられる。

現在までの達成度 (段落)

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(3件)
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 2019 実績報告書
  • 研究成果

    (48件)

すべて 2022 2021 2020 2019 その他

すべて 雑誌論文 (12件) (うち査読あり 12件、 オープンアクセス 4件) 学会発表 (34件) (うち国際学会 13件、 招待講演 3件) 備考 (2件)

  • [雑誌論文] Solid-Phase Crystallization of GeSn Thin Films on GeO2-Coated Glass2022

    • 著者名/発表者名
      Mizoguchi Takuto、Ishiyama Takamitsu、Moto Kenta、Imajo Toshifumi、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      physica status solidi (RRL) Rapid Research Letters

      巻: 16 号: 1 ページ: 2270001-2270001

    • DOI

      10.1002/pssr.202270001

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Three-Dimensionally Orientation-Controlled Ge Rods on an Insulator Formed by Low-Temperature Ni-Induced Lateral Crystallization2022

    • 著者名/発表者名
      Ishiyama Takamitsu、Imajo Toshifumi、Saitoh Noriyuki、Yoshizawa Noriko、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      Crystal Growth & Design

      巻: 22 号: 2 ページ: 1123-1129

    • DOI

      10.1021/acs.cgd.1c01083

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Strain effects on polycrystalline germanium thin films2021

    • 著者名/発表者名
      Imajo Toshifumi、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 11 号: 1 ページ: 8333-8333

    • DOI

      10.1038/s41598-021-87616-x

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Composition dependent properties of p- and n-type polycrystalline group-IV alloy thin films2021

    • 著者名/発表者名
      Mizoguchi Takuto、Imajo Toshifumi、Chen Jun、Sekiguchi Takashi、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      Journal of Alloys and Compounds

      巻: 887 ページ: 161306-161306

    • DOI

      10.1016/j.jallcom.2021.161306

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Record-High Hole Mobility Germanium on Flexible Plastic with Controlled Interfacial Reaction2021

    • 著者名/発表者名
      Imajo Toshifumi、Ishiyama Takamitsu、Saitoh Noriyuki、Yoshizawa Noriko、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: 4 号: 1 ページ: 269-275

    • DOI

      10.1021/acsaelm.1c00997

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Grain size dependent photoresponsivity in GaAs films formed on glass with Ge seed layers2021

    • 著者名/発表者名
      Nishida T.、Igura K.、Imajo T.、Suemasu T.、Toko K.
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 11 号: 1 ページ: 10159-10159

    • DOI

      10.1038/s41598-021-89342-w

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] High thermoelectric power factors in polycrystalline germanium thin films2021

    • 著者名/発表者名
      T. Ozawa, T. Imajo, T. Suemasu, and K. Toko
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 119 号: 13 ページ: 132101-132101

    • DOI

      10.1063/5.0056470

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Sn Concentration Effects on Polycrystalline GeSn Thin Film Transistors2021

    • 著者名/発表者名
      Moto Kenta、Yamamoto Keisuke、Imajo Toshifumi、Suemasu Takashi、Nakashima Hiroshi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 42 号: 12 ページ: 1735-1738

    • DOI

      10.1109/led.2021.3119014

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of grain boundaries on the properties of polycrystalline germanium2020

    • 著者名/発表者名
      Imajo T.、Suemasu T.、Toko K.
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 128 号: 7 ページ: 075301-075301

    • DOI

      10.1063/5.0006469

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Four-step heating process for solid-phase crystallization of Ge leading to high carrier mobility2020

    • 著者名/発表者名
      Mizoguchi Takuto、Imajo Toshifumi、Suemasu Takashi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 10 ページ: 101005-101005

    • DOI

      10.35848/1882-0786/abb88d

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Underlayer Selection to Improve the Performance of Polycrystalline Ge Thin Film Transistors2020

    • 著者名/発表者名
      Imajo Toshifumi、Moto Kenta、Yamamoto Keisuke、Suemasu Takashi、Nakashima Hiroshi、Toko Kaoru
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 98 号: 5 ページ: 423-427

    • DOI

      10.1149/09805.0423ecst

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improved thermoelectric performance of flexible p-type SiGe films by B-doped Al-induced layer exchange2019

    • 著者名/発表者名
      Tsuji M、Imajo T、Saitoh N、Yoshizawa N、Suemasu T、Toko K
    • 雑誌名

      Journal of Physics D: Applied Physics

      巻: 53 号: 7 ページ: 075105-075105

    • DOI

      10.1088/1361-6463/ab5989

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] SiGeを用いたフレキシブル熱電変換素子2022

    • 著者名/発表者名
      前田真太郎, 小澤知輝, 今城利文, 末益崇, 都甲薫
    • 学会等名
      JST CREST・さきがけ複合領域 令和3年度成果展開VRシンポジウム
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 「核生成層」の導入による固相成長Ge薄膜の高品質化2022

    • 著者名/発表者名
      前田真太郎, 石山 隆光, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 機械学習を用いた結晶成長物性の自動解析2022

    • 著者名/発表者名
      石山 隆光, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] Possibility of Ge-based materials for flexible thin-film transistors2021

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, T. Suemasu and K. Toko
    • 学会等名
      E-MRS Spring Meeting 2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Solid-phase Diffusion Doping in Polycrystalline Ge Thin Films Leading to High Thermoelectric Power Factors2021

    • 著者名/発表者名
      T. Ozawa. T. Imajo, T. Suemasu, and K. Toko
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Sn Doping Effects on Polycrystalline Germanium Thin-Film Transistors on Glass2021

    • 著者名/発表者名
      K. Moto, K. Yamamoto, T. Imajo, T. Suemasu, H. Nakashima, and K. Toko
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Ni-Induced Lateral Crystallization of Densified Amorphous Ge Layer2021

    • 著者名/発表者名
      T. Ishiyama. T. Imajo, T. Suemasu, and K. Toko
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] First Demonstration of Photoresponsivity in a Polycrystalline Ge-based Thin Film2021

    • 著者名/発表者名
      T. Mizoguchi. T. Imajo, K. Moto, T. Suemasu, and K. Toko
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2021)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 固相成長Ge薄膜の電気的特性に影響を与える物理的起源の探索2021

    • 著者名/発表者名
      今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 拡散剤を用いた固相成長Ge薄膜の伝導制御と熱電応用2021

    • 著者名/発表者名
      小澤 知輝, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 非晶質Ge(Sn)薄膜のNi誘起横方向成長2021

    • 著者名/発表者名
      石山隆光, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 固相成長GeSn薄膜トランジスタにおけるSn組成の影響2021

    • 著者名/発表者名
      茂藤 健太, 山本 圭介, 今城 利文, 末益 崇, 中島 寛, 都甲 薫
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] ガラス上における多結晶 Ge 系薄膜トランジスタの作製と評価2021

    • 著者名/発表者名
      高山 智成, 茂藤 健太, 山本 圭介, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      2021年(令和3年度)応用物理学会九州支部学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 多結晶Ge-TFTの性能評価と粒界・方位制御技術2021

    • 著者名/発表者名
      石山 隆光, 今城 利文, 茂藤 健太, 山本 圭介,末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第12回半導体材料・デバイスフォーラム
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 多結晶Ge膜の熱電応用と高出力因子の実証2021

    • 著者名/発表者名
      小澤 知輝, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第12回半導体材料・デバイスフォーラム
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 多結晶Ge膜におけるアクセプタ欠陥低減と分光感度実証2021

    • 著者名/発表者名
      溝口 拓士, 今城 利文, 茂藤 健太, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第12回半導体材料・デバイスフォーラム
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] GeO2下部層による固相成長Ge薄膜の移動度向上機構2021

    • 著者名/発表者名
      今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Ⅳ族混晶薄膜の固相成長における前駆体変調効果2021

    • 著者名/発表者名
      溝口 拓士, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 高密度非晶質Ge薄膜のNi誘起横方向成長2021

    • 著者名/発表者名
      石山 隆光, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 拡散剤を用いた固相成長GeSn薄膜のn型伝導制御と熱電応用2021

    • 著者名/発表者名
      小澤 知輝, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] TFT高性能化に向けた絶縁膜上GeSn薄膜の固相成長2020

    • 著者名/発表者名
      今城 利文, 茂藤 健太, 山本 圭介, 末益 崇, 中島 寛, 都甲 薫
    • 学会等名
      第81回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 拡散材を用いた固相成長のGe薄膜のn型伝導制御と熱電応用2020

    • 著者名/発表者名
      小澤 知輝, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第81回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 絶縁体上Ge薄膜の固相成長における焼締効果2020

    • 著者名/発表者名
      溝口 拓士, 今城 利文, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第81回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] The highest quality flexible polycrystalline Ge thin film for wearable devices2020

    • 著者名/発表者名
      T, Imajo, T. Suemasu and K. Toko
    • 学会等名
      E-MRS Spring Meeting (2020)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Direct synthesis of Ge thin film on plastic substrate by solid-phase crystallization2020

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, T. Suemasu and K. Toko
    • 学会等名
      E-MRS Spring Meeting (2020)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] High Hole-mobility (690 cm2 V-1 s-1) Flexible Polycrystalline Ge Thin Films2020

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, T. Suemasu and K. Toko
    • 学会等名
      2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Underlayer Selection to Improve the Performance of Polycrystalline Ge Thin Film Transistors2020

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, K. Moto, K. Yamamoto, T. Suemasu, H. Nakashima, and K. Toko
    • 学会等名
      ECS-Prime2020
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effects of Post Deposition Annealing on the Solid-Phase Crystallization of Ge leading to a Hole Mobility of 530 cm2/Vs on Glass2020

    • 著者名/発表者名
      T. Mizoguchi. T. Imajo, K. Toko, T. Suemasu, and K. Toko
    • 学会等名
      2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2020)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Thickness dependent crystal and electrical properties of polycrystalline Ge on a plastic substrate formed by solid-phase crystallization2019

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, T. Suemasu, K. Toko
    • 学会等名
      2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2019), F-6-01, Nagoya, Japan, Sept. 5, 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Large-grained Polycrystalline Germanium Thin Films on Insulators with the Highest Hole Mobility2019

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, K. Moto, T. Suemasu, K. Toko
    • 学会等名
      The 5th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials, Tue-a-O32, Miyazaki, Japan, July 23, 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] High-hole mobility (500 cm2/Vs) polycrystalline Ge thin film on a GeO2 coated flexible plastic substrate2019

    • 著者名/発表者名
      T. Imajo, K. Moto, T. Suemasu and K. Toko
    • 学会等名
      MRS Spring Meeting, EP10,02,03 Phoenix, USA, April 24, 2019.
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 固相成長Ge薄膜の熱処理過程制御による移動度向上機構の解明”2019

    • 著者名/発表者名
      今城 利文、末益 崇、都甲 薫
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会 14p-A305-7, 東京, March. 14 (2020).
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] プラスチック上Ge薄膜の直接合成と高正孔移動度(670 cm2/Vs)実証2019

    • 著者名/発表者名
      今城 利文, 茂藤 健太, 末益 崇, 都甲 薫
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演会 18a-E304-9, 札幌, Sept. 18 (2019).
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 固相成長Ge薄膜のTFT動作実証とSn添加効果の検討2019

    • 著者名/発表者名
      茂藤 健太, 山本 圭介, 今城 利文, 末益 崇, 中島 寛, 都甲 薫
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演会 19a-E313-7, 札幌, Sept. 19 (2019).
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
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公開日: 2019-05-29   更新日: 2024-03-26  

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