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水素ラジカルによるポリマー材料の分解・除去における酸素微量添加効果の解明

研究課題

研究課題/領域番号 19K04543
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
研究機関香川高等専門学校

研究代表者

山本 雅史  香川高等専門学校, 電気情報工学科, 准教授 (60733821)

研究分担者 堀邊 英夫  大阪公立大学, 大学院工学研究科, 教授 (00372243)
長岡 史郎  香川高等専門学校, 電子システム工学科, 教授 (30300635)
研究期間 (年度) 2019-04-01 – 2023-03-31
研究課題ステータス 完了 (2022年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2021年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2020年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2019年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
キーワードラジカル / ポリマー / 酸素添加 / レジスト / PAC介在架橋 / 水素ラジカル / ポリマー分解 / 酸素微量添加 / 微量フォースセンサーシステム / ラマン分光法 / 深紫外線励起発光分光法 / 分子軌道計算 / 架橋・硬化 / 触媒毒 / 感光剤 / ノボラック樹脂 / 酸素ラジカル / 分解 / 除去速度
研究開始時の研究の概要

ポリマー材料の廃棄物の問題が地球規模で深刻化している。本研究では、酸素添加時に生成される各種ラジカルの反応性やそれらの相互作用を明らかにし、水素ラジカルを用いたポリマー材料の分解・除去における酸素微量添加による分解速度向上の原因を解明し、さらなる分解速度の向上を目指す。将来的には、太陽光や熱、水(水素、酸素)等の自然の力を利用する循環型ポリマー分解システムの開発に向けた基盤技術の創出につなげ、ゴミを資源に変えていく持続可能な社会の実現に貢献したい。

研究成果の概要

本研究では,H2やO2などのガスを加熱したフィラメントで分解することで生成される各種ラジカルの反応性やそれらの相互作用を明らかにし,水素ラジカルを用いたポリマー材料の分解・除去における酸素微量添加による効果やその原因の解明に取り組んだ。化学的に安定なフィラメントを用いると,十分な水素ラジカルの生成量を維持したまま反応性の高いOHラジカルを生成でき,CH3基が導入されたベンゼン環構造を有するポリマーにおいて除去速度を向上できた。これに対し,化学的安定性の低いフィラメントでは,酸素添加すると水素ラジカルの生成量が低下し,OH基を導入したベンゼン環構造を有するポリマーでは除去速度が著しく低下した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

ベンゼン環構造を有するポリマーは,半導体製造プロセスやデバイス品質・信頼性の向上のために不可欠な材料であるが,その構造の化学的安定性のため廃棄処理が大きな課題である。本研究成果の学術的意義は,このようなポリマーの分解・除去において,H2とO2を原料として生成される各種ラジカルの役割や効果,ポリマーの化学構造とラジカルの反応性について明らかにした点である。また,本研究成果の社会的意義は,環境にやさしい方法でポリマーを分解・除去する点である。本研究手法は,半導体分野だけでなく,地球規模での環境問題の解決にも貢献できるようなポリマー分解・リサイクル技術の開発につながると考えている。

報告書

(5件)
  • 2022 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2021 実施状況報告書
  • 2020 実施状況報告書
  • 2019 実施状況報告書
  • 研究成果

    (22件)

すべて 2022 2021 2020 2019 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (14件) (うち国際学会 2件) 図書 (1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Removal of Novolac Photoresist with Various Concentrations of Photo-active Compound Using H<sub>2</sub>/O<sub>2</sub> Mixtures Activated on a Tungsten Hot-wire Catalyst2021

    • 著者名/発表者名
      Akita Koki、Sogo Shota、Sogame Ryusei、Yamamoto Masashi、Nagaoka Shiro、Umemoto Hironobu、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 34 号: 5 ページ: 499-504

    • DOI

      10.2494/photopolymer.34.499

    • NAID

      130008119601

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 年月日
      2021-06-11
    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
  • [雑誌論文] Evaluation of Decomposition Property of Photoresist by Oxygen Radicals Using Helium-Oxygen Mixtures2020

    • 著者名/発表者名
      Yamamoto Masashi、Akita Koki、Nagaoka Shiro、Umemoto Hironobu、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 33 号: 4 ページ: 433-437

    • DOI

      10.2494/photopolymer.33.433

    • NAID

      130007867637

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 年月日
      2020-07-01
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of Nitrogen Dilution on the Photoresist Removal Rate by Hydrogen Radicals2020

    • 著者名/発表者名
      Yamamoto Masashi、Nishioka Hiroto、Akita Koki、Nagaoka Shiro、Umemoto Hironobu、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 33 号: 4 ページ: 427-431

    • DOI

      10.2494/photopolymer.33.427

    • NAID

      130007867636

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 年月日
      2020-07-01
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst2019

    • 著者名/発表者名
      Yamamoto Masashi、Shiroi Tomohiro、Shikama Tomokazu、Nagaoka Shiro、Umemoto Hironobu、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology

      巻: 32 号: 4 ページ: 609-614

    • DOI

      10.2494/photopolymer.32.609

    • NAID

      130007744433

    • ISSN
      0914-9244, 1349-6336
    • 年月日
      2019-06-24
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Oxygen additive effects on decomposition rate of poly(vinyl phenol)-based polymers using hydrogen radicals produced by a tungsten hot-wire catalyst2019

    • 著者名/発表者名
      Yamamoto Masashi、Nagaoka Shiro、Ohdaira Keisuke、Umemoto Hironobu、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 679 ページ: 22-26

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2019.03.035

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photoresist removal using hydrogen radicals produced by tantalum hot-wire catalyst2019

    • 著者名/発表者名
      Yamamoto Masashi、Shiroi Tomohiro、Shikama Tomokazu、Nagaoka Shiro、Horibe Hideo
    • 雑誌名

      American Institute of Physics Conference Proceedings

      巻: 2151 ページ: 020010-020010

    • DOI

      10.1063/1.5124640

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] タングステンHot-Wireで活性化したH2/O2混合ガスによるノボラック系ポジ型レジストの除去速度低下の原因の検討2022

    • 著者名/発表者名
      山本雅史、秋田航希,馬庭知宏,浅川万知,長岡史郎,堀邊英夫
    • 学会等名
      第20回Cat-CVD研究会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] タングステン Hot-Wire で活性化した H2/O2 混合ガスによるノボラックレジストの除去性の検討2021

    • 著者名/発表者名
      山本雅史,秋田航希,十川翔太,十亀龍星,長岡史郎,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第18回Cat-CVD研究会
    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
  • [学会発表] タングステン加熱触媒体で活性化したH2/O2混合ガスを用いたPAC量の異なるノボラックレジストの除去2021

    • 著者名/発表者名
      秋田航希,十川翔太,十亀龍星,山本雅史,長岡史郎,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第38回国際フォトポリマーコンファレンス
    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] He/O2混合ガス中で生成したOラジカルのレジストとの反応性評価2020

    • 著者名/発表者名
      山本雅史,秋田航希,長岡史郎,大平圭介,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第81回応用物理学会秋季学術講演会(オンライン),9p-Z25-5
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] 活性種とポリマーとの反応について2020

    • 著者名/発表者名
      山本雅史,秋田航希,西岡寛人,谷野柊,濱崎智行,長岡史郎,鹿間共一,大平圭介,関口淳,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第17回Cat-CVD研究会(オンライン),15
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] 大気圧低温プラズマによるPMMA表面への超ナノ親水構造の形成2020

    • 著者名/発表者名
      谷野柊,濱崎智行,山本雅史,鹿間共一,堀邊英夫,関口淳
    • 学会等名
      第17回Cat-CVD研究会(オンライン),P-06
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] He/O2混合ガスを用いたOラジカルによるレジストの分解特性の評価2020

    • 著者名/発表者名
      秋田航希,山本雅史,長岡史郎,鹿間共一,大平圭介,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第17回Cat-CVD研究会(オンライン),P-07
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] 水素ラジカルを用いたレジスト除去速度における窒素希釈効果2020

    • 著者名/発表者名
      西岡寛人,山本雅史,長岡史郎,鹿間共一,大平圭介,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第17回Cat-CVD研究会(オンライン),P-08
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] 理科室で構築する工学教育用半導体デバイス設計製作評価環境2020

    • 著者名/発表者名
      長岡史郎,山本雅史,鹿間共一,清水共,ジョンストン・ロバート・ウェストン,松田和典,下川房男,堀邊英夫
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集(2020上智大学 四谷キャンパス) 14a-PA1-22
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] 理科室で構築するナノテクプラットフォーム -設備等の限られた環境下における半導体デバイスの設計製作評価を可能にする環境の構築-2019

    • 著者名/発表者名
      國澤悠,山本雅史,清水共,ジョンストン・ロバート・ウェストン,堀邊英夫,下川房男,長岡史郎
    • 学会等名
      第20回システムインテグレーション部門講演会(高松),3B1微細構造デバイス,2226-2231(2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] 電子線レジストの感度曲線を用いたレジスト解像度パタンの モンテカルロシミュレーション2019

    • 著者名/発表者名
      宮﨑翔,山本雅史,河田純,堀邊英夫,長岡史郎
    • 学会等名
      第20回システムインテグレーション部門講演会(高松),3B1微細構造デバイス,2232-2235(2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] 水素ラジカルを用いたKrF/ArFレジスト用ベース樹脂の除去速度における酸素添加効果2019

    • 著者名/発表者名
      山本雅史,城井智弘,長岡史郎,大平圭介,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第16回Cat-CVD研究会(姫路),14-15(2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Hot-wire 法で生成した原子状水素によるネガ型レジストの還元分解2019

    • 著者名/発表者名
      竹森有紀,神戸正雄,甲田優太,山本雅史,田村弘毅,大箭哲史,佐藤絵理子,堀邊英夫
    • 学会等名
      第16回Cat-CVD研究会(姫路),43-46(2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] イリジウム加熱触媒体で生成した水素ラジカルを用いたレジスト除去速度と酸素添加量との関係2019

    • 著者名/発表者名
      山本雅史,城井智弘,鹿間共一,長岡史郎,梅本宏信,堀邊英夫
    • 学会等名
      第36回国際フォトポリマーコンファレンス(千葉),B4-03(2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [図書] ノボラックレジスト 材料とプロセスの最適化2020

    • 著者名/発表者名
      堀邊英夫, 田中初幸, 花畑誠, 山本雅史, 関口淳, 虎谷秀一, 望月則宏, 萬尚樹
    • 総ページ数
      193
    • 出版者
      S&T出版
    • ISBN
      9784907002794
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [備考] 山本 雅史 - 教員一覧 | 国立高専研究情報ポータル

    • URL

      https://research.kosen-k.go.jp/plugin/rmaps/details/11/122/m-yamamoto

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書

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公開日: 2019-04-18   更新日: 2024-01-30  

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