| 研究課題/領域番号 |
19K05468
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分33020:有機合成化学関連
|
|---|
| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
|---|
研究代表者 |
松本 和弘 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (40512182)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2021年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2021年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2020年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2019年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
|
|---|
| キーワード | シリコーン / ポリシロキサン / シロキサン / 配列制御 / ワンポット合成 / 合成化学 / スピロ化合物 / 大環状化合物 / 重合 |
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
シリコーンは、日用品から航空宇宙に至るまで幅広い産業分野において利用されている有用なポリマー材料である。しかしながら、現行の合成法では、そのシロキサン配列構造を精密に制御して合成することはできない。本研究では、研究代表者がこれまでに開発しているワンポット配列制御合成法により供給可能な数個～十数個のケイ素原子からなる配列制御されたオリゴシロキサンをモノマー原料に用い、これを重合することで、これまでに誰も成し得ていないシリコーンの配列制御合成法を開発する。そして、様々なシロキサン配列構造を有するシリコーンを合成し、その配列構造がシリコーンの物理的性質に及ぼす影響を明らかにする。
|
| 研究成果の概要 |
本研究の目的は、ポリシロキサン（シリコーン）の配列制御合成法を開発することである。これを実現するために、研究代表者がこれまでの研究で開発しているオリゴシロキサンのワンポット配列制御合成法により、両末端にアルコキシシリル基を有する配列制御オリゴシロキサンを合成し、これをトリヒドロシランと交互共重合させるアプローチをとった。研究計画の通り、ワンポット配列制御合成法を用いてスピロ環構造を有するオリゴシロキサン化合物を合成し、これをホウ素触媒存在下にて、トリヒドロシランと交互共重合することで、スピロ環構造を保持した大環状ポリシロキサンを得ることに成功した。
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
ポリシロキサンは一般にはシリコーンとして知られており、耐熱性や耐寒性などの種々の優れた性質により、様々な産業分野で広く使用されている。Si-H基を有するポリシロキサンを官能基を有するオレフィンのヒドロシリル化により修飾する手法は、導入する官能基に応じて様々な特性を付与できることから、変性シリコーンの製造法として幅広く用いられている。
本研究課題で開発したスピロ骨格という特徴的な主骨格を有し、なおかつ規則的にSi-H基を有するポリシロキサンも、各種オレフィンとのヒドロシリル化によって様々な官能基を導入できることから、新規な変性シリコーン材料としての応用が期待される。
|
