| 研究課題/領域番号 |
19K05595
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分35020:高分子材料関連
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
生方 俊 横浜国立大学, 大学院工学研究院, 准教授 (00344028)
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| 研究分担者 |
須丸 公雄 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 生命工学領域, 研究グループ長 (40344436)
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| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2022-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2021年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2021年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2020年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2019年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 表面レリーフ / 光物質移動 / アントラセン / 光二量化 / 脱濡れ / 微細加工 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
溶解度の差に基づく微細加工方法であるフォトリソグラフィ法とは異なり、光に応答した物質移動に基づく光パターニング方法は、動的に制御可能な光学デバイスへの応用が期待される。しかし、着色性・応答速度に難があった。研究代表者らは、光照射によって高分子量化する光分子量変換分子の薄膜を用いて、無色材料の移動に基づく光パターニングを初めて報告、本研究では、基板表面も光二量化残基で修飾することで、基板との化学結合をも誘起する系を構築、未露光部の脱濡れによる高速光誘起物質移動を検討する。新しい原理に基づくこの手法により、これまでにない応用技術への展開が可能になる。
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| 研究成果の概要 |
基板表面から薄膜が剥離する脱濡れ現象を空間的に制御することで、これまでに類のない高速物質移動に基づいた表面レリーフ形成システムを構築することを目的として、表面修飾剤による光連結性表面基板の開発、光応答性の分子量変換材料の開発を進め、これらを用いることで脱濡れを利用した超高速マイクロ表面レリーフ形成を達成した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
薄膜の脱濡れ現象は、ミクロな構造形成を阻む不安定要因であり、産業界において忌嫌われる現象であった。しかし、本研究成果により、脱濡れ現象を制御する方法論が提示され、これを積極的に活用することで、物質移動に伴う光誘起表面レリーフ形成の高速化が達成されることが示された。
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