| 研究課題/領域番号 |
19K05608
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分35020:高分子材料関連
|
|---|
| 研究機関 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 |
|---|
研究代表者 |
玉井 聡行 地方独立行政法人大阪産業技術研究所, 森之宮センター, 研究フェロー (50416335)
|
|---|
| 研究分担者 |
渡辺 充 地方独立行政法人大阪産業技術研究所, 森之宮センター, 研究室長 (70416337)
懸橋 理枝 地方独立行政法人大阪産業技術研究所, 森之宮センター, 総括研究員 (70294874)
小畠 淳平 地方独立行政法人大阪産業技術研究所, 和泉センター, 主任研究員 (00566424)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2019-04-01 – 2024-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2023年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2021年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2020年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2019年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
|
|---|
| キーワード | 高分子表面 / 紫外光照射 / プラズマ処理 / 高分子電解質多層膜 / 交互積層法 / 無電解めっき / ポリエチレンナフタレート / ポリエチレンテレフタレート / 高分子電解質多層 / 高分子薄膜・表面 / ナノ表面・界面 |
|---|
| 研究開始時の研究の概要 |
フレキシブルフィルム基板表面での金属薄膜形成を、(i) 真空紫外光照射もしくはプラズマ処理によるフィルム表面の改質、(ii) 交互積層による高分子電解質多層膜の形成とその膜表面へのPdナノ粒子触媒付与、(iii) 無電解めっき、の3段階を経て行う。得られる、フィルム／多層膜／金属薄膜の積層構造において、層間界面のナノスケール構造制御により、“層間界面での物質間相互作用”を高める。そして、金属薄膜の特性向上、次いでパターン形成を検討する。
|
| 研究成果の概要 |
材料の複合化では、異成分間界面での物質間相互作用の最適化による複合体の特性向上が期待される。本研究では、高分子基板表面において、(1) 表面改質、(2) 多層膜（表面修飾層）形成、(3) 無電解めっきを経て、基板／多層膜／金属薄膜の積層構造体を得ることで、密着性に優れた金属薄膜を形成させた。表面改質・修飾を通じて積層構造体内部において、各層間界面での異種成分間の親和性を高めること、および脆弱部分を形成させないことが金属薄膜の特性向上に有効であることを見出した。
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
高分子‐金属界面での“物質間の物理・化学的相互作用”に関する研究は、高分子‐金属複合体開発および両者の接着・接合技術開発において、界面のナノスケール構造の設計指針を示す点で学術的意義を持つ。その成果は産業界における高分子‐金属複合化技術の発展や、フレキシブル基板作製技術への応用による5G/Beyond 5G移動通信システムの普及促進などの波及効果が期待される。
|
