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ナノ発電素子実現のための革新的層状圧電材料の特性実証

研究課題

研究課題/領域番号 19K21956
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
審査区分 中区分21:電気電子工学およびその関連分野
研究機関東京大学

研究代表者

長汐 晃輔  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (20373441)

研究期間 (年度) 2019-06-28 – 2021-03-31
研究課題ステータス 完了 (2020年度)
配分額 *注記
6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円)
2020年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2019年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
キーワード環境発電 / 圧電・強誘電 / SnS / 2次元強誘電体 / 強誘電特性 / 圧電 / 2次元材料
研究開始時の研究の概要

IoTデバイス数は,数年後には200~400億個といった数に達すると指摘されている.本研究は,普遍的に存在する「振動」という環境エネルギーから電気エネルギーを獲得し,IoTデバイスに独立した形で電力供給を可能とする材料開発を提案するものであり,CO2削減に資する技術である.高いフレキシビリティを持つために最も高い圧電定数(d*g)が報告されている2次元層状SnSにおいて,未だ実証されていない圧電特性を実証し,環境発電につなげる研究を行う.

研究成果の概要

本研究では中心対称性の破れた2次元材料の特性である圧電性を有するSnSを研究対象とした.成長中の原料供給と結晶表面からのSnS脱離のバランスを制御することで,マイカ基板上に0.8 nm厚さの単層SnSの成長に成功した.また.ひずみ印加機構を構築し,SnSの電気特性におけるひずみ応答から圧抵抗効果を検証した.圧縮および引張に対して抵抗値の減少と増加がそれぞれ観察され,圧抵抗効果を観測した.

研究成果の学術的意義や社会的意義

今回,新規圧電・強誘電材料である単層SnSのPVD成長及びその圧抵抗効果の計測等を行った.これまで物性に関する理論予測しかなく単層成長は報告されていなかった状況において,圧電・強誘電特性を評価できた点は,学術的に意義が高い.社会実装まで大きな隔たりがあるものの,既存の圧電材料では困難であった環境発電によるIoTデバイス動作を達成できる可能性がある本提案は,実現すれば社会へのインパクトは非常に大きい.

報告書

(3件)
  • 2020 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2019 実施状況報告書
  • 研究成果

    (36件)

すべて 2020 2019 2018 その他

すべて 国際共同研究 (2件) 雑誌論文 (16件) (うち国際共著 4件、 査読あり 16件、 オープンアクセス 3件) 学会発表 (11件) (うち国際学会 7件、 招待講演 11件) 図書 (5件) 備考 (2件)

  • [国際共同研究] National Chiao Tung University(台湾)

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [国際共同研究] National Chiao Tung University(その他の国・地域)

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [雑誌論文] Quantum-mechanical effect in atomically thin MoS 2 FET2020

    • 著者名/発表者名
      Fang Nan、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      2D Materials

      巻: 7 号: 1 ページ: 014001-014001

    • DOI

      10.1088/2053-1583/ab42c0

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of Interlayer Stacking on Gate-Induced Carrier Accumulation in Bilayer MoS22020

    • 著者名/発表者名
      Maruyama Mina、Nagashio Kosuke、Okada Susumu
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: 2 号: 5 ページ: 1352-1357

    • DOI

      10.1021/acsaelm.0c00139

    • NAID

      120007127633

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Purely in-plane ferroelectricity in monolayer SnS at room temperature2020

    • 著者名/発表者名
      Higashitarumizu Naoki、Kawamoto Hayami、Lee Chien-Ju、Lin Bo-Han、Chu Fu-Hsien、Yonemori Itsuki、Nishimura Tomonori、Wakabayashi Katsunori、Chang Wen-Hao、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      Nature Communications

      巻: 11 号: 1 ページ: 1-5

    • DOI

      10.1038/s41467-020-16291-9

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Isothermal Growth and Stacking Evolution in Highly Uniform Bernal-Stacked Bilayer Graphene2020

    • 著者名/発表者名
      Solis-Fernandez Pablo、Terao Yuri、Kawahara Kenji、Nishiyama Wataru、Uwanno Teerayut、Lin Yung-Chang、Yamamoto Keisuke、Nakashima Hiroshi、Nagashio Kosuke、Hibino Hiroki、Suenaga Kazu、Ago Hiroki
    • 雑誌名

      ACS Nano

      巻: 14 号: 6 ページ: 6834-6844

    • DOI

      10.1021/acsnano.0c00645

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Hexagonal Boron Nitride As an Ideal Substrate for Carbon Nanotube Photonics2020

    • 著者名/発表者名
      N. Fang, K. Otsuka, A. Ishii, T. Taniguchi, K. Watanabe, K. Nagashio, and Y. K. Kato
    • 雑誌名

      ACS Photonics

      巻: 7 号: 7 ページ: 1773-1779

    • DOI

      10.1021/acsphotonics.0c00406

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Understanding interface properties in 2D heterostructure FETs2020

    • 著者名/発表者名
      Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      Semiconductor Science and Technology

      巻: 35 号: 10 ページ: 103003-103003

    • DOI

      10.1088/1361-6641/aba287

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Understanding the Memory Window Overestimation of 2D Materials Based Floating Gate Type Memory Devices by Measuring Floating Gate Voltage2020

    • 著者名/発表者名
      Sasaki Taro、Ueno Keiji、Taniguchi Takashi、Watanabe Kenji、Nishimura Tomonori、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      Small

      巻: 16 号: 47 ページ: 2004907-2004907

    • DOI

      10.1002/smll.202004907

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] All 2D Heterostructure Tunnel Field-Effect Transistors: Impact of Band Alignment and Heterointerface Quality2020

    • 著者名/発表者名
      Nakamura Keigo、Nagamura Naoka、Ueno Keiji、Taniguchi Takashi、Watanabe Kenji、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      ACS Applied Materials & Interfaces

      巻: 12 号: 46 ページ: 51598-51606

    • DOI

      10.1021/acsami.0c13233

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Carrier Distribution Control in van der Waals Heterostructures of MoS2 and WS2 by Field-Induced Band-Edge Engineering2020

    • 著者名/発表者名
      Maruyama Mina、Nagashio Kosuke、Okada Susumu
    • 雑誌名

      Physical Review Applied

      巻: 14 号: 4 ページ: 044028-044028

    • DOI

      10.1103/physrevapplied.14.044028

    • NAID

      120007132502

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Micrometer-scale monolayer SnS growth by physical vapor deposition2020

    • 著者名/発表者名
      Kawamoto H.、Higashitarumizu N.、Nagamura N.、Nakamura M.、Shimamura K.、Ohashi N.、Nagashio K.
    • 雑誌名

      Nanoscale

      巻: 12 号: 45 ページ: 23274-23281

    • DOI

      10.1039/d0nr06022d

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Uniform and ultrathin high-κ gate dielectrics for two-dimensional electronic devices2019

    • 著者名/発表者名
      Li Weisheng、Zhou Jian、Cai Songhua、Yu Zhihao、Zhang Jialin、Fang Nan、Li Taotao、Wu Yun、Chen Tangsheng、Xie Xiaoyu、Ma Haibo、Yan Ke、Dai Ningxuan、Wu Xiangjin、Zhao Huijuan、Wang Zixuan、He Daowei、Pan Lijia、Shi Yi、Wang Peng、Chen Wei、Nagashio Kosuke、Duan Xiangfeng、Wang Xinran
    • 雑誌名

      Nature Electronics

      巻: 2 号: 12 ページ: 563-571

    • DOI

      10.1038/s41928-019-0334-y

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Full Energy Spectra of Interface State Densities for n ‐ and p ‐type MoS 2 Field‐Effect Transistors2019

    • 著者名/発表者名
      Fang Nan、Toyoda Satoshi、Taniguchi Takashi、Watanabe Kenji、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      Advanced Functional Materials

      巻: 29 号: 49 ページ: 1904465-1904465

    • DOI

      10.1002/adfm.201904465

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of interface dipole layers on the performance of graphene field effect transistors2019

    • 著者名/発表者名
      Nagamura Naoka、Fukidome Hirokazu、Nagashio Kosuke、Horiba Koji、Ide Takayuki、Funakubo Kazutoshi、Tashima Keiichiro、Toriumi Akira、Suemitsu Maki、Horn Karsten、Oshima Masaharu
    • 雑誌名

      Carbon

      巻: 152 ページ: 680-687

    • DOI

      10.1016/j.carbon.2019.06.038

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Detection of both optical polarization and coherence transfers to excitonic valley states in CVD-grown monolayer MoS22019

    • 著者名/発表者名
      Asakura Eito、Suzuki Masaki、Karube Shutaro、Nitta Junsaku、Nagashio Kosuke、Kohda Makoto
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 12 号: 6 ページ: 063005-063005

    • DOI

      10.7567/1882-0786/ab21a8

    • NAID

      210000156025

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Pinpoint pick-up and bubble-free assembly of 2D materials using PDMS/PMMA polymers with lens shapes2019

    • 著者名/発表者名
      Toyoda Satoshi、Uwanno Teerayut、Taniguchi Takashi、Watanabe Kenji、Nagashio Kosuke
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 12 号: 5 ページ: 055008-055008

    • DOI

      10.7567/1882-0786/ab176b

    • NAID

      210000155715

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Expansion of the Graphdiyne Family: A Triphenylene-Cored Analogue2018

    • 著者名/発表者名
      Matsuoka Ryota、Toyoda Ryojun、Shiotsuki Ryo、Fukui Naoya、Wada Keisuke、Maeda Hiroaki、Sakamoto Ryota、Sasaki Sono、Masunaga Hiroyasu、Nagashio Kosuke、Nishihara Hiroshi
    • 雑誌名

      ACS Applied Materials & Interfaces

      巻: 10 号: 3 ページ: 2730-2733

    • DOI

      10.1021/acsami.8b00743

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] "Interface engineering for 2D laVirtual MRS Syered semiconductors",2020

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      2020 pring/Fall meeting, (Nov./Dec. 2020, online, USA).
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "In-plane ferroelectricity in monolayer SnS",2020

    • 著者名/発表者名
      K. Nagshio,
    • 学会等名
      6th international Workshop on 2D Materials 2020, supported by A3 Foresight Program, (Sep. 24-25, 2030, Online).
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] ”2次元電子デバイス”,2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 学会等名
      応用物理学会東海支部55周年記念講演,東海ニューフロンティアリサーチワークショップ,(2020年12月-1月,online on-demand).
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] "2次元材料の電子デバイス応用",2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 学会等名
      FNTG学会リレーウェビナー, (2020年6月30日, zoom webinar).
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] "Understanding interface properties in 2D heterostructure FETs"2019

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      2019 Int. Workshop on Dielectric thin films for future electron devices -science and technology -, (Nov. 19, 2019, Tokyo Tech. Tokyo, Japan).
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "Full energy spectra of interface states density for n and p-type MoS2 field effect transistors",2019

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      Recent Progress in Graphene Research(RPGR), (October10, 2019, Kunibiki Messe, Matsue, Shimane, Japan).
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "2D heterostructure FETs",2019

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      PKU-UTokyo Nanocarbon summer camp, (Aug. 2, 2019, UTokyo, Tokyo).
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "2D layered semiconductors",2019

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      7th International symposium on organic and inorganic electronic materials and related nanotechnology, (June 19-22, 2019, Shinshu Univ. Nagano, Japan)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "How to understand interface properties in 2D heterostructure FETs",2019

    • 著者名/発表者名
      K. Nagashio,
    • 学会等名
      2019 Symposia on VLSI Technology and Circuits, (June 19-14, 2019, RIHGA Royal Hotel, Kyoto, Japan)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] "2次元層状トランジスタの界面の理解と制御",2019

    • 著者名/発表者名
      長汐 晃輔,
    • 学会等名
      2019年電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会 ,(2019年10月7日, 機械振興会館 (東京)).
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] "2次元層状SnSの圧電・強誘電特性",2019

    • 著者名/発表者名
      長汐 晃輔,
    • 学会等名
      第23回VBLシンポジウム ,(2019年10月6日, 名古屋大学 (愛知)).
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 招待講演
  • [図書] "完全二次元層状ヘテロ2層グラフェントランジスタ", グラフェンから広がる二次元物質の新技術と応用,2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 総ページ数
      9
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス, 東京, 2020, pp. 33-41
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [図書] "MoS2 FETにおけるゲート容量の理解", グラフェンから広がる二次元物質の新技術と応用,2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 総ページ数
      9
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス, 東京, 2020, pp. 183-191.
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [図書] "2次元層状トンネルFET", ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線,2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 総ページ数
      10
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス, 東京,2020, pp. 251-260.
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [図書] "2次元層状ヘテロFETにおける界面特性制御",2020

    • 著者名/発表者名
      長汐晃輔,
    • 総ページ数
      8
    • 出版者
      応用物理, 2020, 89, 139-146.
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [図書] ”hBNの絶縁性破壊強さの異方性とその起源”2019

    • 著者名/発表者名
      服部吉晃,長汐晃輔,
    • 総ページ数
      5
    • 出版者
      NEW DIAMOND,2019, 35
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [備考] 東大マテリアル・長汐研

    • URL

      http://webpark1753.sakura.ne.jp/nagashio_lab/

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [備考] 東大マテリアル・長汐研究室

    • URL

      http://webpark1753.sakura.ne.jp/nagashio_lab/

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2019-07-04   更新日: 2022-01-27  

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