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電子回折により表面上の水素の位置を決定する方法

研究課題

研究課題/領域番号 19K22134
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
審査区分 中区分29:応用物理物性およびその関連分野
研究機関国立研究開発法人日本原子力研究開発機構

研究代表者

深谷 有喜  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 原子力科学研究所 先端基礎研究センター, 研究主幹 (40370465)

研究期間 (年度) 2019-06-28 – 2021-03-31
研究課題ステータス 完了 (2020年度)
配分額 *注記
6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円)
2020年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2019年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
キーワード電子回折 / 表面 / 水素
研究開始時の研究の概要

現在、クリーンエネルギーの主要な元素として水素が注目されている。水素が果たす役割を理解するためには、物質表面上に吸着した水素の原子配置を実験的に確定することが第一歩である。物質表面の原子配置の決定には回折法が有力な手法であるが、最も軽い元素である水素からの回折強度は微弱であるため、従来、回折法での表面上の水素の位置の決定は困難とされてきた。本研究では、水素位置決定のための反射高速電子回折(RHEED)の新たな測定モードを提案し、電子レンズの開発を通して表面水素の原子位置の高精度決定を試みる。

研究成果の概要

本研究では、物質表面上の水素の原子配置を実験的に決定するために、反射高速電子回折(RHEED)専用の磁界レンズシステムを開発した。本システムは3段の磁界レンズから構成され、設計上約20倍まで回折パターンを拡大できる。実際にSi(111)-7×7表面を用いて、スクリーンとカメラの位置を変化させることなく回折パターンを拡大できることを確認した。これにより、水素の位置変化に敏感な低散乱角領域の回折強度の測定が可能となった。

研究成果の学術的意義や社会的意義

現在、水素はクリーンなエネルギー媒体として注目されている。実際、燃料電池などの実用化も進んでいる。しかし、水素は検出しにくい元素であるがゆえにまだまだ未知な点が多い。本研究は、水素と物質が反応する最前線である表面水素の原子配置の高精度決定に向けた実験手法開発である。今後、本研究で開発した電子レンズシステムを活用し、表面水素の原子配置の解明が実施される。この基礎的な知見を基に、物質表面における水素の理解が促進することが期待される。

報告書

(3件)
  • 2020 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2019 実施状況報告書
  • 研究成果

    (13件)

すべて 2020 2019

すべて 雑誌論文 (4件) (うち国際共著 2件、 査読あり 4件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (7件) (うち国際学会 2件、 招待講演 2件) 図書 (2件)

  • [雑誌論文] Emergence of nearly flat bands through a kagome lattice embedded in an epitaxial two-dimensional Ge layer with a bitriangular structure2020

    • 著者名/発表者名
      A. Fleurence, C.-C. Lee, R. Friedlein, Y. Fukaya, S. Yoshimoto, K. Mukai, H. Yamane, N. Kosugi, J. Yoshinobu, T. Ozaki, and Y. Yamada-Takamura
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 102 号: 20

    • DOI

      10.1103/physrevb.102.201102

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Electronic structure of a (3×3)-ordered silicon layer on Al(111)2020

    • 著者名/発表者名
      Sato Yusuke、Fukaya Yuki、Cameau Mathis、Kundu Asish K.、Shiga Daisuke、Yukawa Ryu、Horiba Koji、Chen Chin-Hsuan、Huang Angus、Jeng Horng-Tay、Ozaki Taisuke、Kumigashira Hiroshi、Niibe Masahito、Matsuda Iwao
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 4 号: 6 ページ: 0640051-6

    • DOI

      10.1103/physrevmaterials.4.064005

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Structure of superconducting Ca-intercalated bilayer Graphene/SiC studied using total-reflection high-energy positron diffraction2020

    • 著者名/発表者名
      Endo Y.、Fukaya Y.、Mochizuki I.、Takayama A.、Hyodo T.、Hasegawa S.
    • 雑誌名

      Carbon

      巻: 157 ページ: 857-862

    • DOI

      10.1016/j.carbon.2019.10.070

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 全反射高速陽電子回折法(TRHEPD)2019

    • 著者名/発表者名
      深谷有喜
    • 雑誌名

      陽電子科学

      巻: 13 ページ: 3-10

    • NAID

      40022010003

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 回折2020

    • 著者名/発表者名
      深谷有喜
    • 学会等名
      日本表面真空学会 東北・北海道支部 関東支部合同セミナー「特別企画:これまでの表面薄膜分析シリーズを振り返って」
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Al(111)基板上のシリコン原子層の電子構造2020

    • 著者名/発表者名
      佐藤祐輔,深谷有喜,M. Cameau,A.K. Kundu,志賀大亮,湯川龍,堀場弘司,C.H. Chen,A. Huang,H.T. Jeng,M. D'angelo,組頭広志,新部正人,松田巌
    • 学会等名
      日本物理学会第75回年次大会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Growth mechanism of twisted graphene layers on graphene/silicon carbide template2020

    • 著者名/発表者名
      Y. Yao, R. Negishi, D. Takajo, Y. Fukaya, M. Takamura, Y. Taniyasu, Y. Kobayashi
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Al(111)基板上のシリセンの電子構造の研究2019

    • 著者名/発表者名
      佐藤祐輔,深谷有喜,M. Cameau,A.K. Kundu, C.H. Chen,A. Huang,H.T. Jeng,M. D'angelo,新部正人,松田巌
    • 学会等名
      2019年日本表面真空学会学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Al(111)基板上のシリセンの電子構造の研究2019

    • 著者名/発表者名
      佐藤祐輔,深谷有喜,M. Cameau,C.H. Chen,A. Huang,H.T. Jeng,M. D'angelo,新部正人,松田巌
    • 学会等名
      日本物理学会2019年秋季大会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Present Status of the Slow Positron Facility of Institute of Materials Structure Science, KEK2019

    • 著者名/発表者名
      I. Mochizuki, K. Wada, Y. Fukaya, T. Shirasawa, Y. Endo, A. Takayama, S. Hasegawa, A. Ichimiya, Y. Nagashima, M. Maekawa, A. Kawasuso, A. Ishida, N. Toge, K. Furukawa, Y. Nagai, T. Hyodo
    • 学会等名
      15th International Workshop on Slow Positron Beam Techniques & Applications (SLOPOS-15)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Recent Studies of Surface Structure Analysis with Total-Reflection High-Energy Positron Diffraction (TRHEPD) at Slow-Positron Facility, KEK2019

    • 著者名/発表者名
      I. Mochizuki, Y. Fukaya, Y. Endo, A. Takayama, S. Hasegawa, A. Ichimiya, T. Hyodo
    • 学会等名
      15th International Workshop on Slow Positron Beam Techniques & Applications (SLOPOS-15)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [図書] ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線2020

    • 著者名/発表者名
      深谷有喜(分担執筆)
    • 総ページ数
      448
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [図書] 2020版 薄膜作製応用ハンドブック2020

    • 著者名/発表者名
      深谷有喜(分担執筆)
    • 総ページ数
      1570
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書

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公開日: 2019-07-04   更新日: 2022-01-27  

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