| 研究課題/領域番号 |
20241026
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 工学院大学 |
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研究代表者 |
小野 幸子 工学院大学, 工学部, 教授 (90052886)
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| 研究分担者 |
阿相 英孝 工学院大学, 工学部, 准教授 (80338277)
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| 連携研究者 |
杉井 康彦 工学院大学, 付置研究所, 准教授 (90345108)
安川 雪子 工学院大学, 付置研究所, ポストドクター (10458995)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
46,410千円 (直接経費: 35,700千円、間接経費: 10,710千円)
2011年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2010年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2009年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
2008年度: 30,290千円 (直接経費: 23,300千円、間接経費: 6,990千円)
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| キーワード | ナノ材料 / ナノバイオ / 先端機能デバイス / 半導体超微細加工 / 材料加工・処理 / ナノ構造形成・制御 / 半導体超微細化 |
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| 研究概要 |
シリコンを始めとする半導体基板, GaAsに代表される化合物半導体基板,さらにアルミニウム,チタンなどの軽金属基板上に,既存のフォトリソグラフィー技術を用いずに,物質固有の自己組織化能を最大限に活かした湿式プロセスで,規則性を持つナノ・マイクロ構造体を容易かつ高精度に作製するプロセスを開発した。
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