| 研究課題/領域番号 |
20244067
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生物物理・化学物理
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
土井 正男 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (70087104)
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| 研究分担者 |
森田 裕史 独立行政法人産業技術総合研究所, ナノテクノロジー研究部門, 主任研究員 (10466790)
住野 豊 愛知教育大学, 教育学部, 助教 (00518384)
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| 連携研究者 |
山口 哲生 九州大学, 大学院・工学研究院, 学術研究員(特任准教授) (20466783)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
46,150千円 (直接経費: 35,500千円、間接経費: 10,650千円)
2011年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
2010年度: 9,490千円 (直接経費: 7,300千円、間接経費: 2,190千円)
2009年度: 12,350千円 (直接経費: 9,500千円、間接経費: 2,850千円)
2008年度: 16,770千円 (直接経費: 12,900千円、間接経費: 3,870千円)
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| キーワード | 高分子界面 / 粘着 / 剥離 / スティック / スリップ運動 / 接触線運動 / 地震現象 / 粘着・剥離 / スティック・スリップ運動 / 高分子 / 破壊力学 / キャビテーション |
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| 研究概要 |
固体基板に粘着させたゴムや粘着剤などの高分子物質を剥がそうとすると、高分子と基板の接触面の境界(接触線)近傍には、キャビティやフィブリルなどのμmオーダのメソスケール構造が表れる。本研究では、高分子の粘着や摩擦において見られるこれらのメソスケール構造を実験的に調べ、構造の変化と粘着・摩擦特性の関係を幾つかの例について明らかにした。特に、粘着性ゴムの接触線運動のモデルを得た。また、基板上をすべるゴムの中の歪みの空間分布を求める方法を提案し、地震現象との関連を議論した。
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