研究課題/領域番号 |
20310038
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
環境技術・環境材料
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
渡辺 隆行 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 准教授 (40191770)
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研究分担者 |
中野 義夫 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 教授 (30092563)
清田 佳美 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 連携准教授 (60216504)
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研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
19,110千円 (直接経費: 14,700千円、間接経費: 4,410千円)
2010年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2009年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
2008年度: 12,870千円 (直接経費: 9,900千円、間接経費: 2,970千円)
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キーワード | 水プラズマ / 熱プラズマ / 大気圧プラズマ / 廃棄物処理 / HFC分解 / PFC分解 / フェノール分解 / アセトン分解 / CHラジカル / CH3ラジカル / フェノール / HFC / PFC / CF4 / HFC134a |
研究概要 |
本研究では、大気圧の直流放電の水プラズマによる有機系廃棄物の分解および分解機構を検討することによって、ポータブル型の廃棄物処理システムを開発することを目的とした。水プラズマによる高濃度フェノール含有排水処理に関しては、1ms程度の処理時間で1mol%フェノール溶液に含まれるフェノールをppmレベルまで分解することができた。アセトン溶液(1-10mol%)の分解では、アセトンの熱分解によってCH_3、CHなどのラジカルが生成し、CH_3によってすすが発生し、CHは水プラズマ由来のOラジカルに酸化されてCOを生成することを明らかにした。
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