| 研究課題/領域番号 |
20350110
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
須丸 公雄 独立行政法人産業技術総合研究所, 幹細胞工学研究センター, 主任研究員 (40344436)
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| 研究分担者 |
高木 俊之 独立行政法人産業技術総合研究所, 幹細胞工学研究センター, 主任研究員 (10248065)
杉浦 慎治 独立行政法人産業技術総合研究所, 幹細胞工学研究センター, 主任研究員 (10399496)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
15,080千円 (直接経費: 11,600千円、間接経費: 3,480千円)
2010年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2009年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2008年度: 7,020千円 (直接経費: 5,400千円、間接経費: 1,620千円)
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| キーワード | ゲル / 光アクチュエータゲル / スピロピラン / マイクロ流体システム / 光応答性バルブ / 光酸発生剤 / 光応答性ブルブ |
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| 研究概要 |
光応答収縮を示すゲルシートを用いてマイクロ流体システムを構成、10個のバルブの独立制御や流体の混合制御を光照射によって自在に行えることを示した。また、従来1時間以上を要した光誘起収縮からの復帰を約10倍高速化した材料を開発、微小物体運搬の光制御への応用を実証した。さらに、可視応答型光酸発生残基を導入したゲルを開発、パターン光照射での流路書き込み、任意のpHで使用が可能なマイクロチップを試作した。
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