| 研究課題/領域番号 |
20360009
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用物性・結晶工学
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
前田 佳均 京都大学, エネルギー科学研究科, 准教授 (50275286)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2010年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2009年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2008年度: 10,920千円 (直接経費: 8,400千円、間接経費: 2,520千円)
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| キーワード | 強磁性薄膜 / ホイスラー合金 / 磁気光学特性 / イオンチャネリング / フォトニック結晶 / 光変調 / イオンチャンネリング / 新機能材料 / 磁気光学効果 / シリサイド / 光変調器 / 強磁性体薄膜 / イオン散乱 / 光磁気効果 / 時間領域有限差分法 / 磁性体周期構造 |
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| 研究概要 |
フォトニック結晶の機能発展の形態として,磁気光学効果による光波制御を可能にするマグネトフォトニック結晶の作製と機能を検証することを目的として,Fe_3Siをはじめとするホイスラー合金薄膜の作製と評価,セルフリフトオフ・プロセスによる磁気格子の作製,磁気光学特性の評価を行い,Fe_3Siマグネトフォトニック結晶と半導体鉄シリサイド・フォトニック結晶を組み合わせることで,赤外導波光の外部磁場変調を実験的に確認することができた
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