研究課題
基盤研究(B)
Si電子デバイスとSi光デバイスの融合を目的として、Si基板上に作製した極薄Si酸化膜を利用して超高密度のナノドット形成し、これらナノドットを種結晶に用いる良質の薄膜をヘテロエピタキシャル成長するためのナノチャネル・ヘテロエピタキシャル薄膜成長法を開発した。さらに、この薄膜成長法を用いて、Si基板上に結晶性の良いGeやGeSn薄膜とGaSbやGaAlSb薄膜を成長し、これらの結晶構造と発光特性を評価した。
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Nanotechnology 印刷中(掲載確定)
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