研究課題
基盤研究(B)
薄膜作製に広く用いられているマグロトロンスパッタ法の効率は、プラズマ閉じ込めに用いる磁場強度に強く依存する。本研究では我々が開発した、従来法の約20倍強力な強磁場を用いたスパッタ法で形成されるプラズマの特徴を調べるとともに、種々の成膜実験を行い、本手法の特徴を明らかにした。特に、本手法では強磁場により高エネルギー電子が広範囲に捕捉されること、これによりプラズマが活性であり、反応性スパッタなどに有利である、などの特徴が明らかになった。また、対向型の磁極配置をこれまでの単極型と比較し、より有効に強磁場を活用できることなどを明らかにした。
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Jpn.J.Appl.Phys. 48
40016464775
Jpn. J. Appl. Phys. 48
ページ: 25507-25507