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ボロンドープした半導体ナノダイヤモンドの開発とグルコースセンサーへの応用

研究課題

研究課題/領域番号 20360056
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 機械材料・材料力学
研究機関徳島大学

研究代表者

村上 理一  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 教授 (00112235)

連携研究者 米倉 大介  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 准教授 (70314846)
コインカー パンカジ  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 助教
研究期間 (年度) 2008 – 2010
研究課題ステータス 完了 (2010年度)
配分額 *注記
19,630千円 (直接経費: 15,100千円、間接経費: 4,530千円)
2010年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2009年度: 7,280千円 (直接経費: 5,600千円、間接経費: 1,680千円)
2008年度: 10,140千円 (直接経費: 7,800千円、間接経費: 2,340千円)
キーワード材料加工・処理 / 導電性ダイヤモンド / グルコースセンサー / 表面・界面物性 / 半導体ダイヤモンド / 酵素反応
研究概要

本研究は導電性ナノダイヤモンドの形成に最適なボロンドープ量を決定し,グルコースオキシターゼを広範囲に固定するための導電性ナノダイヤモンドの化学修飾する方法を開発したものである.また,グルコースオキシダーゼを固定した導電性ナノダイヤモンド薄膜を用い,グルコースセンサーへの応用を試みた.その結果,導電性ナノダイヤモンド成膜時のボロン導入量が多いほど微量のグルコースを検出でき,再現性が高いことを明らかにした

報告書

(4件)
  • 2010 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2009 実績報告書
  • 2008 実績報告書
  • 研究成果

    (9件)

すべて 2011 2010 2009 2008

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (7件)

  • [雑誌論文] Enhanced field emission characteristics of boron doped diamond films grown by microwave plasma assisted chemical vapor deposition2011

    • 著者名/発表者名
      Pankaj M.Koinkar, Sandip S.Patil, Tae-Gyu Kim, D.Yonekura, Mahendra A.More, Dilip S.Joag, Ri-ichi Murakami
    • 雑誌名

      Applied Surface Science Vol.257

      ページ: 1854-1858

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhanced field emission characteristics of boron doped diamond films grown by microwave plasma assisted chemical vapor deposition2011

    • 著者名/発表者名
      Pankaj M.Koinkar
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 257 ページ: 1854-1858

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価2010

    • 著者名/発表者名
      石川洋三, 米倉大介, 村上理一
    • 学会等名
      日本機械学会中国四国支部・九州支部合同企画
    • 発表場所
      徳島講演会
    • 年月日
      2010-10-16
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価2010

    • 著者名/発表者名
      村上理一
    • 学会等名
      日本機械学会中国四国支部・九州支部合同企画徳島講演会
    • 発表場所
      徳島大学
    • 年月日
      2010-10-16
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasa chemical vapor : Effect of vacuum annealing2009

    • 著者名/発表者名
      P.M.Koinkar, D.Yonekura, T.G.Kim, M.A.More, R.Murakami
    • 学会等名
      2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference, pp.247-248
    • 発表場所
      Hamamatsu, Japan
    • 年月日
      2009-07-22
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition : Effect of vacuum annealing2009

    • 著者名/発表者名
      R.Murakami
    • 学会等名
      2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference
    • 発表場所
      浜松
    • 年月日
      2009-07-22
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Chemical Modification of Diamond Films on Pure Titanium Deposited By MPCVD Method2008

    • 著者名/発表者名
      R. Murakami
    • 学会等名
      International Conference on Advanced Materials Development and Performance 2008
    • 発表場所
      北京航空航大学
    • 年月日
      2008-10-15
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Electrochemical Properties of Boron-doped Diamond Deposited by Microwave Plasma CVD Method2008

    • 著者名/発表者名
      K.Oka, D.Yonekura, R. Murakami
    • 学会等名
      International Conference on Advanced Materials Development & Performance 2008
    • 発表場所
      Bei jing
    • 年月日
      2008-10-14
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrochemical properties of Boron-doped diamond deposited by microwave plasma cvd method2008

    • 著者名/発表者名
      R. Murakami
    • 学会等名
      International Conference on Advanced Materials Development and Performance 2008
    • 発表場所
      北京航空航大学
    • 年月日
      2008-10-14
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書

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公開日: 2008-04-01   更新日: 2016-04-21  

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