| 研究課題/領域番号 |
20360116
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
知能機械学・機械システム
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| 研究機関 | 香川大学 |
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研究代表者 |
大平 文和 香川大学, 工学部, 教授 (80325315)
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| 研究分担者 |
佐々木 実 豊田工業大学, 工学部, 教授 (70282100)
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| 連携研究者 |
三原 豊 香川大学, 工学部, 特命教授 (50314901)
吉村 英徳 香川大学, 工学部, 准教授 (30314412)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
19,110千円 (直接経費: 14,700千円、間接経費: 4,410千円)
2010年度: 5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
2009年度: 7,930千円 (直接経費: 6,100千円、間接経費: 1,830千円)
2008年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
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| キーワード | 三次元実装 / 垂直配線 / スプレーコート / 斜め露光 / 光モジュール / MEMS / 実装技術 / 配線形成 / 垂直面形成 |
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| 研究概要 |
三次元実装配線の実現に向けて、スプレーコートの適正塗布条件と、斜め露光条件を把握した。また配線形成のためのメッキ条件を把握した。本技術を三次元実装の例としChip on Glass光モジュールの実装に適用した。配線の抵抗値は0.1～0.2Ωであり、信頼性評価においても問題ないことを示した。これにより本技術が三次元実装へ適用可能であることを示した。また、異方性エッチングによるシリコンの垂直形状形成条件を把握した。
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