| 研究課題/領域番号 |
20540351
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物性Ⅱ
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| 研究機関 | 電気通信大学 |
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研究代表者 |
鈴木 勝 電気通信大学, 情報理工学研究科, 教授 (20196869)
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| 研究分担者 |
簑口 友紀 (簔口 友紀) 東京大学, 大学院・総合文化研究科 (10202350)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2008年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | ^4He / 吸着膜 / 超流動 / 固相膜すべり / QCM / He吸着膜 / 固相膜 / グラファイト / 界面摩 / 滑り運動 / 界面摩擦 |
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| 研究概要 |
本研究では、4He吸着膜の超流動と吸着固相膜のすべり運動の競合の機構を明らかにすることを目的として、これまでに競合が観測された条件と異なる条件でQCM測定を実施した。測定の結果、32kHz測定においても5MHz測定の基板加速度とほぼ等しい条件で競合が観測される。これは、超流動と吸着固相膜のすべり運動の競合を決める因子は吸着膜に働く有効的な力であることを示唆し、簔口が提唱する固相膜のすべり運動のモデルを支持するものである。
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