周波数シフトプローブの高性能化に関する研究

• 研究課題/領域番号: 20540487
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: プラズマ科学
• 研究機関: 中部大学
• 研究代表者: 中村 圭二 中部大学, 工学部, 教授 (20227888)
• 研究分担者: 菅井 秀郎 中部大学, 工学部, 教授 (40005517)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2010
• 研究課題ステータス: 完了 (2010年度)
• 配分額: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円); 2010年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円); 2009年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円); 2008年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
• キーワード: 周波数シフトプローブ / マイクロ波共振器プローブ / 電子密度 / 電子温度 / シース / 電磁界解析 / 小型化

研究概要

電子密度のモニタが可能で,プラズマへの擾乱を最小限に抑制可能な平板型周波数シフトプローブに着目し,プローブ周囲に形成されるシースによる影響を調べた。またシース効果を抑制して測定精度を向上させるとともに、電子温度の算出方法などについて検討した。スリット幅が異なる2種類のプローブについてシミュレーションと実験を行ったところ,シースを考慮せずに算出した電子密度は,真の電子密度に比べて低めに見積もられ,シース幅が厚くなるにつれてその傾向が顕著となった。しかしスリット幅を広くすると,シース効果が緩和されて測定精度が向上した。さらにスリット幅が異なる2つのプローブを用いることで電子温度の算出も可能となることがわかった。

研究成果

• [雑誌論文] Observation of Optical Fluorescence of GaN Thin Films in an Inductively-Coupled Plasma Containing High Energy Electrons (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Guo, K.Nakamura, J.Zhang, Y.Nakano, H.Sugai
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 50
  • NAID: 210000138234
  • 査読あり
• [雑誌論文] Advanced high-pressure plasma diagnostics with hairpin resonator probe surrounded by film and sheath (2010)
  • 著者名/発表者名: J.Xu, J.Shi, J.Zhang, Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
  • 雑誌名: Chinese Physics B 29
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二,張祺,菅井秀郎
  • 雑誌名: 電気学会論文誌A 130 ページ: 930-934
  • NAID: 10026693463
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二, 張祺, 菅井秀郎
  • 雑誌名: 電気学会論文誌A 巻: 130 ページ: 930-934
  • NAID: 10026693463
  • 査読あり
• [雑誌論文] Advanced high-pressure plasma diagnostics with hairpin resonator probesurrounded by film and sheath (2010)
  • 著者名/発表者名: J.Xu, J.Shi J.Zhang, Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
  • 雑誌名: Chinese Physics B 巻: 19
  • 査読あり
• [雑誌論文] Observation of Optical Fluorescence of GaN Thin Fims in an Inductively Coupled Plasma Containing High Energy Electrons (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Guo, K.Nakamura, J.Zhang, Y.Nakano, H.Sugai
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 50
  • 査読あり
• [雑誌論文] Simulation of Resistive Microwave Resonant Probe for High Pressure Plasma Diagnostics (2009)
  • 著者名/発表者名: J.Xu, K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 雑誌名: Plasma Sources Science and Technology 28 ページ: 45009-45018
  • 査読あり
• [雑誌論文] Simulation of Resistive Microwave Resonant Probe for High Pressure Plasma Diagnostics (2009)
  • 著者名/発表者名: J.Xu
  • 雑誌名: Plasma Sources Science and Technology 18 ページ: 45009-45018
  • 査読あり
• [雑誌論文] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature (2008)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 雑誌名: Proc.30th international symposium on dry process ページ: 181-182
  • 査読あり
• [雑誌論文] Application of Droplet-Free Metal Ion Source to Formation of Gas Barrier Thin Films (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura
  • 雑誌名: Physica Status Solidi c 5 ページ: 887-892
  • 査読あり
• [雑誌論文] Application of Droplet-Free Metal Ion Source to Formation of Gas Barrier Thin Films (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura
  • 雑誌名: Physica status Solidi c 5 ページ: 887-892
  • 査読あり
• [雑誌論文] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
  • 雑誌名: Proc. 30th international symposium on dry process ページ: 181-182
  • 査読あり
• [学会発表] E結合コンパクト周波数シフトプローブによる電子密度測定II (2011)
  • 著者名/発表者名: 梁以資, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学(厚木市)(講演会は中止)
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] マイクロ波共振器プローブを用いた電子密度計測における測定精度向上';,;第58回応用物理学関係連合講演会 (2011)
  • 著者名/発表者名: 熊崎恵未, 土屋貴, 中村博, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学(厚木市)(講演会は中止)
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] Electron Density Measurement by Novel Frequency Shift Probe (2011)
  • 著者名/発表者名: I.Liang, K.Kato, K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 3rd Int.Symp.Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2011-03-07
• [学会発表] Miniaturization of Plane-Type Microwave Resonator Probe (2011)
  • 著者名/発表者名: E.Kumazaki, K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 3rd Int.Symp.Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2011-03-07
• [学会発表] Investigation on Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Conditions in Nano-Materials Processing Plasmas (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura
  • 学会等名: Int.Symp.Visualization in Joining & Welding Science through Advanced Measurements and Simulation, and Advanced Materials Development and Integration of Novel Structured Metallic and Inorganic Materials in conjunction with Symposium on the research Activities of Joint Usage/Research Center on Joining and Welding (Visual-JW2010)
  • 発表場所: Osaka, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2010-11-12
• [学会発表] Investigation on Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Conditions in Nano-Materials Processing Plasmas' (2010)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura
  • 学会等名: Int.Symp.Visualization in Joining & Welding Science through Advanced Measurements and Simulation, and Advanced Materiala Development and Integration of Novel Structured Metallic and Inorganic Materials in conjunction with Symposiumon the research Activities of Joint Usage/Research Center on Joining and Welding (Visual-JW2010)
  • 発表場所: Osaka, Japan(Invited)
  • 年月日: 2010-11-12
• [学会発表] 電子密度測定用マイクロ波共振プローブの高次モードへの拡張 (2010)
  • 著者名/発表者名: 梁以資, 太田習, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2010-09-15
• [学会発表] コンパクト周波数シフトプローブによる電子密度測定 (2010)
  • 著者名/発表者名: 梁以資, 加藤公孝, 熊崎恵未, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2010-09-15
• [学会発表] 電界結合型周波数シフトプローブによる電子密度計測 (2010)
  • 著者名/発表者名: 梁以資, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 中部大学(春日井市)
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] スパイラルアンテナを用いた小型マイクロ波共振器プローブによる電子密度測定 (2010)
  • 著者名/発表者名: 中村博, 新海康史, 土屋貴, 熊崎恵未, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 中部大学(春日井市)
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] スパイラルアンテナを用いたマイクロ波共振器プローブの小型化 (2010)
  • 著者名/発表者名: 熊崎恵未, 新海康史, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 中部大学(春日井市)
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] マイクロ波共振プローブの高次モードによる電子密度計測 (2010)
  • 著者名/発表者名: 保田将宏, 梁以資, 太田習, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 中部大学(春日井市)
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] Plasma Electron Monitoring with Multi-Resonator Frequency Shift Probe (2010)
  • 著者名/発表者名: Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials
  • 発表場所: Nagoya, Japan
• [学会発表] Expansion to Higher Mode in Electron Density Measurement by Microwave resonator Probe (2010)
  • 著者名/発表者名: I.Liang, S.Ohta, K.Kato, K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 63rd Gaseous Electronica Conference (GEC2010)/7th Int.Conf.Reactive Plasmas (ICRP-7)/28th Syp.Plasma Processing (SPP-28)
  • 発表場所: Paris, France
• [学会発表] Plasma Electron Monitoring with Multi-Resonator Frequency Shift Probe (2010)
  • 著者名/発表者名: 張棋
  • 学会等名: 2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials
  • 発表場所: 名城大学(名古屋市)
• [学会発表] Control and Diagnostics of Oxygen Microwave Plasma at High Pressure (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Ohta
  • 学会等名: 2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials
  • 発表場所: 名城大学(名古屋市)
• [学会発表] 高圧力マイクロ波プラズマ生成におけるホロー効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 太田習
  • 学会等名: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 東海大学湘南キャンパス(平塚市)
• [学会発表] マルチ共振型周波数シフトプローブの検討 (2010)
  • 著者名/発表者名: 張棋
  • 学会等名: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 東海大学湘南キャンパス(平塚市)
• [学会発表] マルチ共振型周波数シフトプローブを用いた電子密度および電子温度の計測 (2010)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: 第27回プラズマプロセシング研究会
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
• [学会発表] 周波数シフトプローブを用いた大気圧プラズマのモニタリングの検討 (2009)
  • 著者名/発表者名: 金徐州, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: つくば市・筑波大学
  • 年月日: 2009-03-30
• [学会発表] Influence of Polymer Depositon on Electron Monitoring with Frequency Shift Probes (2009)
  • 著者名/発表者名: Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 1st Int.Symp.Advanced Plasma Science & its Applications (ISPlasma2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-03-08
• [学会発表] Development of Electron-Based Plasma Monitoring for Precise Control of Plasma Process (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, H.Sugai
  • 学会等名: 1st Int.Symp.Advanced Plasma Science & its Applications (ISPlasma 2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-03-08
• [学会発表] Microwave Plasma Control with use of Multi-Hollow Dielectric Plate (2009)
  • 著者名/発表者名: S. Ohta, T. Sano, Y. Liang, K. Nakamura, H. Sugai
  • 学会等名: 1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-03-08
• [学会発表] Influence of Polymer Depositon on Electron Monitoring with Frequency Shift Probes (2009)
  • 著者名/発表者名: Q. Zhang, K. Nakamura, H. Sugai
  • 学会等名: 1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-03-08
• [学会発表] Development of Electron-Based Plasma Monitoring for Precise Control of Plasma Process (2009)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura, H. Sugai
  • 学会等名: 1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-03-08
• [学会発表] Influence of Polymer Deposition on Frequency Shift Probe (2009)
  • 著者名/発表者名: 張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会
  • 発表場所: 名古屋市・名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-02
• [学会発表] Simulation-Based Analysis and Experimental Verification of Inductively-Coupled Fluorocarbon Plasmas (2009)
  • 著者名/発表者名: 板津史明, 梅本祥平, 中村圭二, 田中正明
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会
  • 発表場所: 名古屋市・名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-02
• [学会発表] Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 学会等名: 2nd Int.Conf.Plasma-Nano Technol.& Sci.(IC-PLANTS2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-01-22
• [学会発表] Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas (2009)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
  • 学会等名: 2nd Int. Conf. Plasma-Nano Technol. &Sci. (IC-PLANTS2009)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2009-01-22
• [学会発表] Application of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature (2009)
  • 著者名/発表者名: Q. Zhang, K. Nakamura, H. Sugai
  • 学会等名: 8th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics
  • 発表場所: Gifu, Japan
  • 年月日: 2009-01-21
• [学会発表] Influence of Sheath on Measurement of Electron Density in Frequency Shift Probe and its Application to Measurement of Electron Temperature (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 学会等名: American Vaccuum Society 56th Int.Symp.and Exhibition (AVS-56)
  • 発表場所: San Jose, U.S.A.
• [学会発表] Sheath Effects on Electron Density Measurements in Frequency Shift Probe and their Application to Electron Temperature Measurements (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 学会等名: 62nd Gaseous Electronics Conference (GEC2009)
  • 発表場所: Saratoga, U.S.A.
• [学会発表] Influence of Sheath on Measurement of Electron Density in Frequency Shift Probe and its Application to Measurement of Electron Temperature (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: American Vaccuum Society 56th Int.Symp.and Exhibition(AVS-56)
  • 発表場所: San Jose, U.S.A.
• [学会発表] Sheath Effects on Electron Density Measurements in Frequency Shift Probe and their Application to Electron Temperature Measurements (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: 62nd Gaseous Electronics Conference(GEC2009)
  • 発表場所: Saratoga, U.S.A.
• [学会発表] Mircrowave Resonance Probes for Diagnostics of High Pressure Plasmas (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: 31st Int.Symp.Dry Process
  • 発表場所: Busan, Korea
• [学会発表] Numerical Studies on Mircrowave Resonator Probes for Diagnostics of High Pressure Plasmas (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering(AEPSE2009)
  • 発表場所: Busan, Korea
• [学会発表] Control of Electro-negative Microwave Plasma for High-Rate Semiconductor Process (2009)
  • 著者名/発表者名: S.Ohta
  • 学会等名: 7th Int.Workshop on Microwave Discharges : Fundamental and Applications
  • 発表場所: CURREAC(浜松市)
• [学会発表] マイクロ波放電における誘電体とプラズマの界面制御 (2009)
  • 著者名/発表者名: 藤田慎也
  • 学会等名: 平成21年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知工業大学(豊田市)
• [学会発表] アッシング用マイクロ波プラズマの診断 (2009)
  • 著者名/発表者名: 太田習
  • 学会等名: 平成21年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知工業大学(豊田市)
• [学会発表] 大気圧プラズマ用マイクロ波共振ブローブの検討 (2009)
  • 著者名/発表者名: 熊崎恵未
  • 学会等名: 平成21年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知工業大学(豊田市)
• [学会発表] マルチ共振型周波数シフトブローブの開発(1) (2009)
  • 著者名/発表者名: 館竜太
  • 学会等名: 平成21年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知工業大学(豊田市)
• [学会発表] マルチ共振型周波数シフトブローブの開発(2) (2009)
  • 著者名/発表者名: 鋤柄稔
  • 学会等名: 平成21年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知工業大学(豊田市)
• [学会発表] ダブルスリットを用いた高機能周波数シフトプローブの開発 (2009)
  • 著者名/発表者名: 張祺
  • 学会等名: 第70回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 富山大学
• [学会発表] 高圧力プラズマ診断用マイクロ波共振プローブの開発 (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: 第70回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 富山大学
• [学会発表] 周波数シフトプローブを用いた電子状態のモニタリング (2009)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二
  • 学会等名: 電気学会プラズマ研究会
  • 発表場所: 同志社大学(京都市)
• [学会発表] 周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 張祺
  • 学会等名: 電気学会プラズマ研究会
  • 発表場所: 佐賀大学
• [学会発表] フロン系プラズマのシミュレーションと実験的検証 (2008)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二, 板津史明, 田中正明
  • 学会等名: 電気学会プラズマ研究会
  • 発表場所: 京都・同志社大学
  • 年月日: 2008-12-19
• [学会発表] Development of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Density in Reactive Nano-Materials Processing Plasmas (2008)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 学会等名: IUMRS International Conference in Asia 2008 (IUMRS-ICA 2008)
  • 発表場所: Nagoya, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2008-12-09
• [学会発表] Development of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Density in Reactive Nano-Materials Processing Plasmas (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
  • 学会等名: IUMRS International Conference in Asia2008 (IUMRS-ICA 2008)
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 2008-12-09
• [学会発表] Plasma diagnostics for etching process - Influence of wall conditions on fluorocarbon radicals - (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura
  • 学会等名: Tokai Region Knowledge Cluster Workshop on Plasma Etch Technologies
  • 発表場所: Nagoya University
  • 年月日: 2008-12-01
• [学会発表] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
  • 学会等名: 30th international symposium on dry process
  • 発表場所: Tokyo, Japan
  • 年月日: 2008-11-26
• [学会発表] 周波数シフトプローブの電子温度計測への応用 (2008)
  • 著者名/発表者名: 中村圭二, 張祺, 菅井秀郎
  • 学会等名: 電気学会プラズマ研究会
  • 発表場所: 仙台市・東北大学
  • 年月日: 2008-10-31
• [学会発表] マイクロ波マルチホロー放電におけるプラズマ制御 ; (2008年9月 愛知県立大学)0-0086, p. (2008)
  • 著者名/発表者名: 太田習, 佐野貴憲, 塩出悠喜, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知県・愛知県立大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] マイクロ波マルチホロー放電におけるプラズマ制御 (2008)
  • 著者名/発表者名: 太田習, 佐野貴憲, 塩出悠喜, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知県・愛知県立大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] 周波数シフトプローブによるSiウェハーを介した電子密度計測の基礎的検討 (2008)
  • 著者名/発表者名: 式地祐麻, 井上雄介, 張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知県・愛知県立大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] シミュレーションを用いた誘導結合型フロロカーボンプラズマの解析と検証 (2008)
  • 著者名/発表者名: 梅本祥平, 板津史明, 中村圭二, 田中正明
  • 学会等名: 平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知県・愛知県立大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] 誘導結合型フロロカーボンプラズマにおけるガス組成の効果 (2008)
  • 著者名/発表者名: 石原慎也, 張祺, 臼井政志, 中村圭二
  • 学会等名: 平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 愛知県・愛知県立大学
  • 年月日: 2008-09-18
• [学会発表] Effects of probe shape on electron density measurements with frequency shift (2008)
  • 著者名/発表者名: K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
  • 学会等名: 14th International Congress on Plasma Physics
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 2008-09-11
• [学会発表] Effects of probe shape on electron density measurements with frequency shift (2008)
  • 著者名/発表者名: probesK. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
  • 学会等名: 14th International Congress on Plasma Physics 2008
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 2008-09-11
• [学会発表] スリット形状による周波数シフトプローブにおける電子密度測定の精度改善 (2008)
  • 著者名/発表者名: 張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 第69回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 愛知県・中部大学
  • 年月日: 2008-09-03
• [学会発表] Development of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electrons in Reactive Processing Plasmas (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Nakamura
  • 学会等名: 7th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics
  • 発表場所: Seoul, Korea
  • 年月日: 2008-07-03
• [学会発表] 周波数シフトプローブを用いた電子密度計測におけるプローブ形状の効果' ;, ; (2008年5月 名古屋) PST-08-26, pp. 1-6 (2008)
  • 著者名/発表者名: 張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
  • 学会等名: 電気学会プラズマ研究会
  • 発表場所: 名古屋市・名古屋工業大学
  • 年月日: 2008-05-23