| 研究課題/領域番号 |
20540488
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 鶴岡工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
吉木 宏之 鶴岡工業高等専門学校, 総合科学科, 教授 (00300525)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2008年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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| キーワード | 大気圧μプラズマ / 磁化μプラズマ / マイクロ流路チップ / 小口径チューブ / 親水化処理 / プラズマCVD / TiO_2薄膜 / SiO_2薄膜 / μプラズマ / パルスコロナ放電 / 環状ポリオレフィン / ナノカーボン物質 / 大気圧プラズマ / μ磁化プラズマ / マイクロ流路 / ポリプロピレンチューブ / CVD / SiO2薄膜コーティング / ポリイミドフィルムの剥離 / SiO_2薄膜コーティング |
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| 研究概要 |
内径1mm以下のチューブやマイクロ流体チップの流路内に減圧～大気圧で生成したμプラズマ(μP)を用いた化学気相成長法でTiO_2やSiO_2薄膜を作製して、X線光電子分光分析、赤外吸収スペクトルおよび走査電子顕微鏡で膜の組成や表面形状を解明した。また、マイクロ流路に0.4T以上の強磁場を印加してHe、Ar磁化μPを生成し、電子温度の制御を試みた。さらに、パルスコロナμPを用いて市販のプラスチック製チップの流路内壁親水化処理を実現した。
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