| 研究課題/領域番号 |
20550108
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
石曽根 隆 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 准教授 (60212883)
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| 連携研究者 |
横山 英明 東京大学, 新領域創成科学研究科, 准教授 (80358316)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2008年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 高分子合成 / 両親媒性ブロック共重合体 / 水溶性ポリマー / 感温性ポリマー / 側鎖末端基 / メタクリル酸トリ(エチレングリコール)ビニルエーテル / リビングアニオン重合 / ポリ(メタクリル酸トリエチレングリコール / ポリ(メタクリル酸トリエチレングリコール) |
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| 研究概要 |
本研究では、水溶性を示すポリメタクリル酸エステルセグメントと疎水性のポリスチレンから構成される新規両親媒性ブロック共重合体をリビングアニオン重合によって合成し、そのキャストフィルムを作製した。多数存在する疎水性の側鎖末端基の導入効果により、両親媒性ブロック共重合体中の親水性セグメントを、空気中や真空下という疎水性雰囲気下においても優先的にかつ自発的にフィルム最表面に偏析させ、親水性・反応性・生体適合性を示すポリマー表面を構築することに成功した。
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