| 研究課題/領域番号 |
20550114
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子化学
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| 研究機関 | 神奈川大学 |
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研究代表者 |
横山 明弘 神奈川大学, 工学部, 准教授 (50343637)
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| 研究分担者 |
横澤 勉 神奈川大学, 工学部, 教授 (80182690)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2008年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | 高分子合成 / ポリアミド / ラダー |
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| 研究概要 |
モデル反応を行い、モノマー問に2つのアミド結合を連続構築させるための反応条件とモノマー構造の検討を行った。さらにモノマーの合成方法を確立し、その重合検討を行った。塩基の検討を行ったところ、ヘキサメチルジシラジド金属塩を用いた反応では、塩基が重合反応部位と反応してしまうために重合が阻害されてしまうが、求核性の低い塩基を用いることにより、この副反応を抑制できることを明らかにした。
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