| 研究課題/領域番号 |
20560109
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 岡山大学 |
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研究代表者 |
大橋 一仁 岡山大学, 大学院・自然科学研究科, 准教授 (10223918)
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| 研究分担者 |
塚本 眞也 岡山大学, 大学院・自然科学研究科, 教授 (80163773)
長谷川 裕之 岡山大学, 自然科学研究科, 助教 (60403482)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2010年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2009年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2008年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
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| キーワード | 切削・研削加工 / マイクロ砥粒加工 / キャビテーション / 砥粒加工 / スラリ / ノズル / CFD / 加工量 / スラリー / 加工精度 / 衝撃力 / 材料除去量 / 表面粗さ |
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| 研究概要 |
加工チャンバ内にウエハを水平に設置し,チャンバ内のスラリーを鉛直上方に吸引することによって,ウエハに対抗させた絞りノズルからキャビテーションを伴うスラリー流をウエハ表面に作用させる反転流型キャビテーション援用砥粒加工法を考案し,その効果と水晶ウエハの加工に適する加工条件を検討した.絞りノズル径およびウエハとのクリアランスによってウエハ形状を数十ナノメートルのレベルで変化させることができ,ウエハ設置ステージに回転機構を加えることで形状精度が更に向上した
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