| 研究課題/領域番号 |
20560267
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電力工学・電力変換･電気機器
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| 研究機関 | 名古屋工業大学 |
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研究代表者 |
木村 高志 名古屋工業大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60225042)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2010年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2009年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2008年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | アブレーション / パルスプラズマ / 材料プロセス / ダイヤモンドライクカーボン / PTFE / 薄膜 / フッ化ダイヤモンドライクカーボン / プロセス応用 / 炭素 / フッ素 |
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| 研究概要 |
電熱加速型パルスプラズマ推進機をアブレーション用パルスプラズマとして、固体原料の昇華により発生した気体やそれらのイオンを基板材料へ入射することで材料プロセスを行う方式を提案する。固体原料としてテフロン(PTFE)を用いた場合、基板上に薄膜が形成された。薄膜の分析の結果、薄膜表面上で炭素とほぼ同等のフッ素が含有されていることやアモルファスカーボン膜が形成されていることがわかった。加えて、測定した膜の硬度は最大7GPaに達した。これらの結果より、本方式を用いて、やや軟質ではあるがフッ素含有ダイヤモンドライクカーボン膜が作製可能であることを明らかにした。
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