| 研究課題/領域番号 |
20560654
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
構造・機能材料
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
有田 誠 (2010) 九州大学, 工学研究院, 助教 (30284540)
増田 正孝 (2008-2009) 九州大学, 工学研究院, 教授 (40165725)
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| 研究分担者 |
生駒 嘉史 九州大学, 工学研究院, 助教 (90315119)
有田 誠 九州大学, 工学研究院, 助教 (30284540)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2010年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2009年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2008年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 酸化チタン / 光触媒 / 超親水性 / 薄膜 / 超親水 / 光誘起 / ルチル / アナターゼ / 親水性 / 疎油性 / 可視光応答性 / スパッタリング / SOR光 |
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| 研究概要 |
スパッタリング法により形成された酸化チタン薄膜における光誘起親水性・光触媒活性の支配因子を探るために、様々な酸化膜を作製しその諸特性を調べた。二層構造膜の特性より、スパッタリング圧力が活性に強く影響することがわかり、光電気化学的測定から光電流密度と光触媒活性の対応が示された。表面付近におけるバンド傾斜の大きさが光誘起親水性・光触媒活性および光電流密度と良い一致を示すことが判明し、これらが酸化チタン薄膜の光誘起親水性・光触媒活性を支配する要因になっていることが示唆された。
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