研究課題/領域番号 |
20560664
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
構造・機能材料
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研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
研究代表者 |
浅野 雅春 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム研究応用部門, 嘱託 (50370341)
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研究分担者 |
陳 進華 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (30370430)
吉田 勝 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 嘱託 (20354938)
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研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2010年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2009年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2008年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | 燃料電池電解質膜 / イオン照射 / 光グラフト重合 / 燃料電池用電解質膜 / イオンビーム照射 |
研究概要 |
イオンビーム照射技術により高分子フィルム内部に微小構造を形成させた後、光グラフト重合を用いて、その微小構造内に優先的にスチレングラフト鎖を導入後、スルホン化により電解質膜を得た。得られた電解質膜の膜面方向と膜厚方向のプロトン伝導度を評価したところ、それぞれ0.043S/cm、0.080S/cmと膜厚方向に高いプロトン伝導性を持つ異方伝導性電解質膜を開発することができた。
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