| 研究課題/領域番号 |
20560676
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 兵庫県立大学 |
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研究代表者 |
八重 真治 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00239716)
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| 研究分担者 |
松田 均 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 教授 (60118015)
福室 直樹 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 助教 (10347528)
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| 連携研究者 |
阪本 進 日本オイコス式会社, 取締役 (00607286)
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| 研究協力者 |
平野 達也 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 博士前期課程学生
坂部 佳祐 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 博士前期課程学生
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2010年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2009年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2008年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | ポーラスシリコン / 金属ナノ粒子 / ナノホール / 無電解めっき / 密着性 / 薄膜 / ハードディスク / ウェットエッチング / 金ナノ粒子 / 銀ナノ粒子 |
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| 研究概要 |
3段階の無電解プロセスにより、高密度磁気記録媒体を作製することを目的とした。水溶液に浸すだけの簡単な処理で、シリコン表面にナノメートルサイズの磁石(硬質磁性金属ナノロッド)を埋め込むことに成功した。その分布や長さを変えることはできるが、制御性に課題があることが分かった。一方で、本方法で、シリコン表面に均一に金属薄膜が形成され、この膜の密着性が著しく高いことを見いだした。
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