| 研究課題/領域番号 |
20560680
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 金沢工業大学 |
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研究代表者 |
宮田 俊弘 金沢工業大学, 工学部, 教授 (30257448)
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| 連携研究者 |
南 内嗣 金沢工業大学, 工学部, 教授 (70113032)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2008年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 薄膜 / EL素子 / コンビナトリアルスパッタリング / 蛍光体 / 酸化物 / コンビナトリアル / スパッタリング |
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| 研究概要 |
コンビナトリアル・スパッタリング法により、多元系蛍光体薄膜を作製する成膜技術を確立した。まず、第1段階として、エレクトロルミネッセンス素子用蛍光体薄膜材料として、申請者らが開発に成功した高輝度黄色発光多元系酸化物薄膜である(Y_2O_3)x^- (GeO_2)^<1-x>、(Y_2O_3)_x^- (Gd_2O_3)^<1-x>及び(Y_2O_3)_x^- (Ga_2O_3)_<1-x>薄膜等のY_2O_3ベース多元系複合酸化物蛍光体薄膜の構成元素の組成及び発光中心材料であるMnの添加量を変化させた薄膜をそれぞれ1回の成膜プロセスで作製する成膜技術を確立し、それらの蛍光体薄膜を発光層に採用するセラミック絶縁層形薄膜EL素子の作製技術を確立して、多色EL発光を実現できた。
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