| 研究課題/領域番号 |
20560687
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 独立行政法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
打越 哲郎 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, 主席研究員 (90354216)
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| 研究分担者 |
鈴木 達 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, 主幹研究員 (50267407)
目 義雄 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, センター長 (00354217)
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| 連携研究者 |
西村 睦 独立行政法人物質・材料研究機構, 燃料電池材料センター, センター長 (20344434)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2010年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2009年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2008年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | コーティング / 粒子積層プロセス / 電気泳動堆積 / サスペンション / 水系 / 気泡 / 固化成形 / 水素吸蔵合金 / 直流パルス |
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| 研究概要 |
セラミックス水系サスペンションの電気泳動堆積プロセスにおいて問題となる電極基板表面でのガス発生を、(1)直流電場制御、(2)基板材料の選択、(3)溶媒への添加剤の3つの視点から効果的に抑止するプロセス条件を検討し、DCパルス電場(矩形波)の利用、パラジウム基板の利用から効果的に防止できることを実証した。
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