研究課題/領域番号 |
20560719
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
触媒・資源化学プロセス
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研究機関 | 横浜国立大学 |
研究代表者 |
窪田 好浩 横浜国立大学, 工学研究院, 教授 (30283279)
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研究分担者 |
池田 拓史 独立行政法人産業技術総合研究所, コンパクト化学システム研究センター, 研究員 (60371019)
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研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2010年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2009年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2008年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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キーワード | ゼオライト / 構造規定剤 / 水熱合成法 / 乾燥ゲル法 / チタノシリケート / X線結晶構造解析 / 格子欠損 / スチーミング / ポスト処理 / 酸化触媒 / フェノール酸化 / シリカ源 / 構造解析 / スケールアップ |
研究概要 |
乾燥ゲル法(DGC法)で調製した新規ゼオライト前駆体Si-YNU-2Pは不安定であるが、スチーミング処理したSi-YNU-2_<ST>は、構造規定剤除去後も高い結晶性を保った。この原因はSiのマイグレーションであることを明らかにした。YNU-2_<ST>にTi導入処理を行うと、四配位Ti種が骨格に取り込まれ、Ti-YNU-2_<ST>が得られた。Ti-YNU-2_<ST>は既存のチタノシリケートであるTS-1を上回る酸化触媒性能を示した。
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