Ce(IV)とフッ素アニオンを用いる有機ケイ素化合物からの新規ラジカル発生法の開発

• 研究課題/領域番号: 20590003
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 化学系薬学
• 研究機関: 金沢大学
• 研究代表者: 内山 正彦 金沢大学, 学際科学実験センター, 准教授 (40277265)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2010
• 研究課題ステータス: 完了 (2010年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2010年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2009年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2008年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
• キーワード: ラジカル / セリウム / 一電子酸化 / フッ素アニオン / 有機ケイ素化合物

研究概要

フッ素アニオンにより活性化された有機ケイ素化合物を一電子酸化剤であるCe(IV)と反応させることで、種々のタイプの炭素ラジカルを発生させることが出来るものと考え、研究を行った。現在のところ、この方法によるラジカルの発生を確認するには至っていないが、本研究の過程で、触媒量のCe(IV)あるいはCe(III)を用いた水系反応によって酸化的なラジカル炭素-炭素結合形成が可能であることを見出すことが出来た。