| 研究課題/領域番号 |
20612023
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム
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| 研究機関 | (財)高輝度光科学研究センター |
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研究代表者 |
鈴木 基寛 (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (60443553)
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| 研究協力者 |
近藤 祐治 秋田県産業技術センター, 先端機能素子開発部ナノデバイスグループ, 研究員 (70390903)
角田 匡清 東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (80250702)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2010年度: 130千円 (直接経費: 100千円、間接経費: 30千円)
2009年度: 130千円 (直接経費: 100千円、間接経費: 30千円)
2008年度: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
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| キーワード | 放射線・X線 / 粒子線 / 放射光 / 磁気記録 / 磁性 / イメージング / 放射線・X線・粒子線 / 放射線・X線、粒子線 |
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| 研究概要 |
次世代の超高密度磁気記録材料であるビットパターン媒体等の磁区構造を10nm以下の分解能で観察することを目的とし、硬X線を用いたフーリエ変換ホログラフィー測定法の開発を行った。放射光の円偏光特性と空間干渉性を活用することで、一辺100nmのCo/Pt多層膜磁気ドットの電荷密度像を30 nmの空間分解能で得た。磁気イメージングについては測定精度の改善が課題であり、実験配置や解析法の改良を進めていく。
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