• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

中低温イオン液体を用いた新規アモルファスシリコン薄膜形成法

研究課題

研究課題/領域番号 20656117
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 材料加工・処理
研究機関京都大学

研究代表者

野平 俊之  京都大学, エネルギー科学研究科, 准教授 (00303876)

研究期間 (年度) 2008 – 2009
研究課題ステータス 完了 (2009年度)
配分額 *注記
3,400千円 (直接経費: 3,400千円)
2009年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
2008年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
キーワードシリコン / 電析 / イオン液体 / アモルファス / 太陽電池 / 中低温
研究概要

太陽電池用シリコン薄膜を安価かつ大:量に製造するためには、電析法によるシリコン薄膜形成が有望である。本研究では、申請者が開発した中低温イオン液体であるZnCl2-NaCl-KCl系(使用温度200-250℃)やZnCl2-EMPyrCI系(使用温度100-200℃)を電解質として用い、高品質なアモルファスシリコン薄膜を電析させることを目的としている。平成21年度は、前年度に引き続きシリコン源としてSiCl4を用いて実験を行った。実験温度が200-250℃の場合に有望なZnCl2-NaCl-KCl系について、常圧ではSiCl4溶解度が低いが、加圧することで溶解度が上昇することが分かった。次に、ZnCl2-EMPyrCl系(ZnCl2:EMPyrCl=50:50mol%)において、作用極にニッケル板、対極にはグラッシーカーボンロッド、参照極には亜鉛線を用い、アルゴン雰囲気下のグローブボックス内で、ヒーターにより浴温を150℃に保持して電析実験を行った。定電位電解によりサンプルを作成し、XPS、SEM、EDXにより分析した結果、シリコンが電析されたことが示唆された。特に、その電析速度は1時間で約10μmと、室温イオン液体TMHATFSA系と比較して約100倍であることが分かった。

報告書

(2件)
  • 2009 実績報告書
  • 2008 実績報告書
  • 研究成果

    (8件)

すべて 2009 2008

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Electrochemical reduction of silicon tetrachloride in an intermediate-temperature ionic liquid2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Nishimura, T.Nohira, T.Morioka, R.Hagiwara
    • 雑誌名

      Electrochemistry 77

      ページ: 683-686

    • NAID

      130002150634

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] In Situ Kaman Spectroscopy Studies of the Electrolyte-Substrate Interface during Electrodeposition of Silicon in a Room-Temperature Ionic Liquid2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Nishimura, Y.Fukunaka, C.R.Miranda, T.Nishida, T.Nohira, R.Hagiwara
    • 雑誌名

      ECS Transactions 16(24)

      ページ: 1-6

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Measurement of the SiC14 Diffusion Coefficient in a Room-Temperature Ionic Liquid by an Optical Moire-Pattern Technique2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Nishimura, T.Nishida, Y.Fukunaka, C.R.Miranda, T.Nohira, R.Hagiwara
    • 雑誌名

      ECS Transactions 16(46)

      ページ: 13-23

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] XPS study and optical properties of Si films electrodeposited in a room-temperature ionic liquid2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Nishimura, Y. Fukunaka, T. Nohira, T. Goto, K. Hachiya, T. Nishida, R. Hagiwara
    • 雑誌名

      ECS Transactions 13

      ページ: 37-52

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrodeposition of Si Thin Film in a Hydrophobic Room-Temperature Molten Salt2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Nishimura, Y. Fukunaka, T. Nishida, T. Nohir, R.
    • 雑誌名

      Electrochemical and Solid-state Letters 11

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] The electrodeposition mechanism of silicon in a room-temperature ionic liquid2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Nishimura, T.Nohira, T.Nishida, C.R.Miranda, Y.Fukunaka, R.Hagiwara
    • 学会等名
      COIL3
    • 発表場所
      Carins, Australia
    • 年月日
      2009-06-01
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication of Nanoscale Si-based Materials by Electrochemical Processing2008

    • 著者名/発表者名
      Yusaku Nisnimura, Yasuhiro Fukunaka, Tetsuo Nishida, Toshiyuki Nothiyuki Nohira, Rika Hagiwara
    • 学会等名
      PRIME2008
    • 発表場所
      Hawaii, USA
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Electrodeposition of Silicon in an Intermediate-Temperature Molten Salt2008

    • 著者名/発表者名
      Ysaku Nishimura, Toshiyuki Nohira, Rika Hagiwara
    • 学会等名
      2008 Joint Symposium on Molten Salts
    • 発表場所
      Kobe, Japan
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書

URL: 

公開日: 2008-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi