| 研究課題/領域番号 |
20681004
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| 研究種目 |
若手研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
放射線・化学物質影響科学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
長谷川 純 東京工業大学, 原子炉工学研究所, 助教 (90302984)
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| 研究協力者 |
小栗 慶之 東京工業大学, 原子炉工学研究所, 教授 (90160829)
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
21,450千円 (直接経費: 16,500千円、間接経費: 4,950千円)
2010年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2009年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
2008年度: 11,310千円 (直接経費: 8,700千円、間接経費: 2,610千円)
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| キーワード | マイクロビーム / ガラスキャピラリー / イオン散乱 / イオンビーム / PIXE分析 / モンテカルロ計算 / 細胞照射 |
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| 研究概要 |
テーパーガラスキャピラリーによるMeVイオンの集束メカニズムについて,実験及び数値シミュレーションによる詳細な研究を行い,キャピラリー内壁での入射イオンの散乱がこの集束現象の支配的な物理過程であることを初めて明らかにした.この集束法により得られたマイクロビームは,異なる発散角を持つ直進成分と散乱成分から構成されるが,2次元元素マッピング等のマイクロビーム分析を行うには十分な品質を有することが分かった.
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