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プラズマプロセスの制御によるアモルファス炭素膜の揺らぎのない成膜プロセスの創成研究

研究課題

研究課題/領域番号 20684027
研究種目

若手研究(A)

配分区分補助金
研究分野 プラズマ科学
研究機関長崎大学

研究代表者

篠原 正典  長崎大学, 工学研究科, 助教 (80346931)

研究期間 (年度) 2008 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
21,190千円 (直接経費: 16,300千円、間接経費: 4,890千円)
2011年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2010年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2009年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2008年度: 13,390千円 (直接経費: 10,300千円、間接経費: 3,090千円)
キーワード反応性プラズマ / プロセス診断 / プラズマ-固体表面相互作用 / プラズマプロセス制御 / アモルファス炭素膜 / プラズマプロセス / 多重内部反射 / 赤外吸収分光法 / 反応過程 / ラジカル / 水素の引き抜き / 付加反応 / 多重内部反射赤外分光 / 成長過程 / 水素の役割 / アセチレン / 赤外分光
研究概要

プラズマ化学気相堆積法を用いたアモルファス炭素膜の成膜メカニズムについて,多重内部反射赤外吸収分光法を用いて調べた。メタンを原料とした場合,CH_3を含むCH_2CH_3などのsp^-結合をもつ炭化水素が膜成長の主な前駆体であり,水素の引き抜きが起こりながら膜が成長する。一方,アセチレンを原料とした場合,C_2H等のsp-結合をもつ炭化水素が膜成長の主な前駆体であり,この前駆体は水素の引き抜きを伴わず付加反応で吸着し膜が成長するため堆積速度が向上することがわかった。

報告書

(6件)
  • 2012 研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実績報告書
  • 2010 実績報告書   自己評価報告書 ( PDF )
  • 2009 実績報告書
  • 2008 実績報告書
  • 研究成果

    (64件)

すべて 2012 2011 2010 2009 2008

すべて 雑誌論文 (23件) (うち査読あり 15件) 学会発表 (36件) (うち招待講演 2件) 産業財産権 (5件)

  • [雑誌論文] Surface modification of DLC film due to oxygen plasma exposure, observed by IR absorption spectroscopy in multipleinternal- reflection geometry2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, Y. Takami, Y. Matuda, and H. Fujiyama
    • 雑誌名

      IEEE Trans. of Plasma Science

      巻: Vo l . 40, No. 10 号: 10 ページ: 2756-2761

    • DOI

      10.1109/tps.2012.2208766

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of the surface bond states in as-deposited DLC films on the incorporation of nitrogen and oxygen atoms into the DLC films2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Nitta, K. Okamoto, T. Nakatani, M. Shinohara
    • 雑誌名

      IEEE Transactions of Plasma Science

      巻: 40 号: 8 ページ: 2073-2078

    • DOI

      10.1109/tps.2012.2203613

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマが誘起する表面反応の解析~気相プラズマから液中プラズマ~2012

    • 著者名/発表者名
      篠原正典,松田良信,藤山 寛
    • 雑誌名

      化学工業

      巻: 63 ページ: 942-946

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [雑誌論文] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, H. Kawazoe, T. Kawakami, T. Inayoshi, Y. Matuda, and H. Fujiyama, Y. Nitta, and T. Nakatani
    • 雑誌名

      Trans. of MRS-Japan

      巻: Vol. 35, No. 3 ページ: 563-566

    • NAID

      130004676329

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, H. Kawazoe, T. Inayoshi, T. Kawakami, Y. Matsuda, H. Fujiyama, Y. Nitta, and T. Nakatani
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: Vol. 518, No. 13 号: 13 ページ: 3497-3501

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2009.11.033

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Proceedings of TENCON 2010

      ページ: 1948-1950

    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma Investigated with Infrared Spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Trans.of MRS-Japan vol.35

      ページ: 563-566

    • NAID

      130004676329

    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析2010

    • 著者名/発表者名
      篠原正典, 他8名(1番目)
    • 雑誌名

      表面科学 Vol.31

      ページ: 400-404

    • NAID

      10026546055

    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Thin Solid Films Vol.518

      ページ: 3497-3501

    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 518 ページ: 3497-350

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析2010

    • 著者名/発表者名
      篠原正典, 他
    • 雑誌名

      表面科学

      巻: 31 ページ: 400-404

    • NAID

      10026546055

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他
    • 雑誌名

      Transactions of MRS-Japan

      巻: 35 ページ: 563-566

    • NAID

      130004676329

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 重水素プラズマとアモルファス炭素薄膜の表面反応の「その場」「実時間」計測2010

    • 著者名/発表者名
      河上貴聡、原幸治郎、篠原正典、藤山寛、松田良信
    • 雑誌名

      プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会 論文集

      巻: 1 ページ: 11-12

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [雑誌論文] 酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化過程における基板温度依存性2010

    • 著者名/発表者名
      河上貴聡、原幸治郎、篠原正典、松田良信、藤山寛
    • 雑誌名

      応用物理学会九州支部学術講演会予稿集

      巻: 1 ページ: 96-96

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [雑誌論文] Reaction of Oxygen Plasma with Amorphous Carbon Films2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, et al.
    • 雑誌名

      日本MRS学術シンポジウム予稿集

      巻: 1

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [雑誌論文] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara, 他
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 518

      ページ: 3497-3501

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] アモルファス炭素膜のプラズマ気相化学堆積過程の観察2010

    • 著者名/発表者名
      篠原正典
    • 雑誌名

      表面科学 31

      ページ: 156-161

    • NAID

      10026319645

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [雑誌論文] ubstrate temperature effects on amorphous carbon film growth, Investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry2009

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, K. Cho, Y. Matsuda, T. Inayoshi, H. Kawazoe, H. Fujiyama, Y. Nitta, and T. Nakatani
    • 雑誌名

      J. of Vac. Sci. and Technol. A

      巻: Vol. 27, No. 4 号: 4 ページ: 813-817

    • DOI

      10.1116/1.3077278

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry2009

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      J.Vac.Sci.and Technol.A Vol.27

      ページ: 813-817

    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry2009

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara, 他
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technologies A 27

      ページ: 613-817

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of amorphous carbon film deposition on source gases2009

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara,(他6名)
    • 雑誌名

      プラズマ科学シンポジウム/第26回プラズマプロセス研究会プロシーデイングス 1

      ページ: 216-217

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [雑誌論文] アモルファス炭素膜の成膜機構2008

    • 著者名/発表者名
      篠原正典、他3名
    • 雑誌名

      電気学会プラズマ研究会資料2008/7/4-5 PST-08-39

      ページ: 9-12

    • NAID

      10025666837

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [雑誌論文] Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma Processing for Bio-annlication2008

    • 著者名/発表者名
      H. Fujiyama and M. Shinohara
    • 雑誌名

      Proceedings of the Symposium on the Application of Plasma to Bio-Medical Engineering 1

      ページ: 80-83

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Plasma exposure effects on the behavior of hydrogen on amorphous carbon film2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Takaki, S. Yagi, Y. Takami, T. Tsumura, M. Shinohara, Y. Matsuda, Hiroshi Fujiyama
    • 学会等名
      Asia Pscific Conference Plasma Science and Technology 2012
    • 発表場所
      Kyoto-Japan
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] エチレンプラズマを用いた炭素膜形成過程の赤外分光計測2012

    • 著者名/発表者名
      高木雄也、八木翔平、高見佳生、津村高成、篠原正典、松田良信、藤山 寛
    • 学会等名
      九州薄膜表面研究会
    • 発表場所
      佐賀
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] アモルファス炭素膜と軽元素プラズマとの表面反応の赤外分光解析2012

    • 著者名/発表者名
      高木 雄也,高見 佳生,篠原 正典,松田 良信,藤山 寛
    • 学会等名
      表面科学会全国大会
    • 発表場所
      仙台
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] エチレンを原料としたプラズマ化学気相堆積の反応計測2012

    • 著者名/発表者名
      高木雄也、高見佳生、篠原正典、松田良信、藤山 寛
    • 学会等名
      表面科学会全国大会
    • 発表場所
      仙台
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] プラズマプロセスの赤外分光解析2011

    • 著者名/発表者名
      篠原正典
    • 学会等名
      「原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会
    • 発表場所
      岐阜県核融合科学研究所(招待講演)
    • 年月日
      2011-02-04
    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
  • [学会発表] プラズマプロセスの赤外分光解析2011

    • 著者名/発表者名
      篠原正典
    • 学会等名
      原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会
    • 発表場所
      核融合科学研究所(招待講演)
    • 年月日
      2011-02-04
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, K. Hara, Y. Takami, Y. Takaki, A. Fukae, K. Amano, Y. Matsuda, and H. Fujiyama
    • 学会等名
      The 8thAsian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2011)
    • 発表場所
      大連/中国
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] In-situ Monitoring of Plasma-induced Reactions with Infrared Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara
    • 学会等名
      3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      北京/中国
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] In-situ infrared spectroscopy of oxidation process of amorphous carbon film, depending on substrate temperatures2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, Y. Matsuda and H. Fujiyama,
    • 学会等名
      International Symposium of American Vacuum Society
    • 発表場所
      Nashville-USA
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, M. Shinohara, Y. Matsuda, and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Plasma Conference
    • 発表場所
      Kanazawa-Japan
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Substrate Temperature Effects on Behavior of Surface Hydrogen during Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, Y. Matsuda and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Symposium of Plasma Science for Materials
    • 発表場所
      Osaka-Japan
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析2011

    • 著者名/発表者名
      篠原正典,原幸治郎,高見佳生,高木雄也,深江陽大,天野勝裕,松田良信,藤山 寛
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会 2011年8月7-9日
    • 発表場所
      大阪
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] In-situ Monitoring of Plasma-induced Reactions with Infrared Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara
    • 学会等名
      3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      Beijin-China
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, K. Hara, Y. Takami, Y. Takaki, A. Fukae, K. Amano, Y. Matsuda, and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Asian-European International Conference of Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Dalian-China
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 重水素プラズマとアモルファス炭素薄膜の表面反応の「その場」「実時間」計測2010

    • 著者名/発表者名
      河上貴聡、原幸治郎、篠原正典、藤山寛、松田良信
    • 学会等名
      プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会
    • 発表場所
      九州大学伊都キャンパス
    • 年月日
      2010-12-18
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition2010

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara, 他
    • 学会等名
      19^<th> Academic Symposium of MRS-Japan 2009
    • 発表場所
      横浜市 開港記念会館
    • 年月日
      2010-12-08
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Investigation of Deposition Process of Amorphous carbon film using acetylene plasma2010

    • 著者名/発表者名
      H.Kawazoe, T.Kawakami, T.Inayoshi, M.Shinohara, 他
    • 学会等名
      19^<th> Academic Symposium of MRS-Japan 2009
    • 発表場所
      横浜市 横浜情報文化センター
    • 年月日
      2010-12-08
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Interaction of hydrogen plasma with amorphous carbon films deposited using acetylene plasma2010

    • 著者名/発表者名
      H.Kawazoe, T.Kawakami, T.Inayoshi, M.Shinohara, 他
    • 学会等名
      19^<th> Academic Symposium of MRS-Japan 2009
    • 発表場所
      横浜市 横浜情報文化センター
    • 年月日
      2010-12-08
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] 酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化過程における基板温度依存性2010

    • 著者名/発表者名
      河上貴聡、原幸治郎、篠原正典、松田良信、藤山寛
    • 学会等名
      応用物理学会九州支部学術講演会
    • 発表場所
      九州大学伊都キャンパス
    • 年月日
      2010-11-27
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Paris-France
    • 年月日
      2010-10-06
    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
  • [学会発表] Investigation of amorphous carbon film deposition process2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      1st International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      Beijin-China(招待講演)
    • 年月日
      2010-05-15
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書 2010 自己評価報告書
  • [学会発表] Interactions between Hydrogen Plasma and Amorphous Carbon Films2010

    • 著者名/発表者名
      H.Kawazoe, T.Inayoshi, T.Kawakami, K.Hara, M.Shinohara, 他
    • 学会等名
      The 27^<th> Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      横浜市 横浜開港記念会館
    • 年月日
      2010-02-01
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Investigation of amorphous carbon film deposition process2010

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara
    • 学会等名
      1st International Workshopon Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      北京/中国
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] プラズマプロセスにおける「その場・実時間」反応過程解析2010

    • 著者名/発表者名
      河上貴聡, 原幸治郎, 川副大樹, 稲吉孝紀, 篠原正典, 松田良信, 藤山寛, 新田祐樹, 中谷達行
    • 学会等名
      応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(講演奨励賞記念講演(招待講演))
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] アモルファス炭素薄膜の成長過程の基板温度依存牲2010

    • 著者名/発表者名
      原幸治郎, 河上貴聡, 篠原正典, 松田良信, 藤山寛
    • 学会等名
      応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] アセチレンを原料として用いたプラズマCVD法によるアモルファス炭素膜の成膜反応2009

    • 著者名/発表者名
      篠原正典, 他
    • 学会等名
      表面科学会講演大会
    • 発表場所
      タワーホール船越
    • 年月日
      2009-10-29
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] 酸素分子・酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化反応2009

    • 著者名/発表者名
      篠原正典, 他
    • 学会等名
      表面科学会講演大会
    • 発表場所
      タワーホール船越
    • 年月日
      2009-10-28
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Dependences of growth process of amorphous carbon films on the different source gases : methane and acetylene2009

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara, 他
    • 学会等名
      International Symposium on Plasma Chemistry 19
    • 発表場所
      ドイツ・ボーフム
    • 年月日
      2009-07-27
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2009

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      22nd Symposium on Plasma Science for Materials
    • 発表場所
      東京大学山上会館
    • 年月日
      2009-06-16
    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
  • [学会発表] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2009

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara, 他
    • 学会等名
      22nd Symposium on Plasma Science for Materials
    • 発表場所
      東京大学
    • 年月日
      2009-06-16
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films2009

    • 著者名/発表者名
      T. Inayoshi, H. Kawazoe, M. Shinohara、他4名
    • 学会等名
      Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009
    • 発表場所
      長崎市長崎大学
    • 年月日
      2009-01-27
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Investigation of growth mechanism of diamond-like carbon film2008

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      55^<th> International symposium of American Vacuum society
    • 発表場所
      Boston-USA
    • 年月日
      2008-10-21
    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
  • [学会発表] Investigation of Growth Mechanism of Diamond-like Carbon film2008

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, 他3名
    • 学会等名
      The 55^<th> Symposium of American Vacuum Society
    • 発表場所
      アメリカ合衆国ボストン市ハインズコンベンションセンター
    • 年月日
      2008-10-21
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Investigation of Growth Process Amorphous Carbon Film during Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, 他3名
    • 学会等名
      International Congress on Plasma Physics 2008
    • 発表場所
      福岡市国際会議センター
    • 年月日
      2008-09-11
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] アモルファス炭素膜堆積の基板温度依存性2008

    • 著者名/発表者名
      篠原正典、他3名
    • 学会等名
      表面技術協会第118回(近畿大学)講演大会
    • 発表場所
      大阪府東大阪市近畿大学本部キャンパス
    • 年月日
      2008-09-01
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] アモルファス炭素膜の成長の赤外分光解析2008

    • 著者名/発表者名
      篠原正典、他3名
    • 学会等名
      九州薄膜表面研究会
    • 発表場所
      福岡市九州大学筑紫キャンパス
    • 年月日
      2008-06-21
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [産業財産権] ダイヤモンド様薄膜、その製造方法及び製造装置2012

    • 発明者名
      篠原正典,松田良信,藤山 寛,中谷達行,岡本圭司
    • 権利者名
      国立大学法人 長崎大学トーヨーエイテック株式会社
    • 出願年月日
      2012-09-24
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [産業財産権] ダイヤモンド様薄膜 長崎大学,(株)トーヨーエイテック2012

    • 発明者名
      篠原正典,仲谷達行,他
    • 権利者名
      長崎大学,(株)トーヨーエイテック
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2012-03-07
    • 取得年月日
      2012-09-24
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [産業財産権] 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置2010

    • 発明者名
      中谷達行,新田祐樹,篠原正典,藤山 寛
    • 権利者名
      国立大学法人 長崎大学トーヨーエイテック株式会社
    • 産業財産権番号
      2009-115707
    • 出願年月日
      2010-05-12
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [産業財産権] 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置2009

    • 発明者名
      中谷達之、新田祐樹、篠原正典、藤山寛
    • 権利者名
      長崎大学、トーヨーエイテック(株)
    • 産業財産権番号
      2009-115707
    • 出願年月日
      2009-05-12
    • 関連する報告書
      2010 自己評価報告書
  • [産業財産権] 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置2009

    • 発明者名
      篠原正典, 他
    • 権利者名
      篠原正典, 他
    • 産業財産権番号
      2009-115707
    • 出願年月日
      2009-05-12
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書

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公開日: 2008-04-01   更新日: 2016-04-21  

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