低消費電力・高精細大画面液晶テレビ用高性能ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発

• 研究課題/領域番号: 20686021
• 研究種目: 若手研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 電子・電気材料工学
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 後藤 哲也 東北大学, 未来科学共同研究センター, 准教授 (00359556)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2009
• 研究課題ステータス: 完了 (2009年度)
• 配分額: 20,280千円 (直接経費: 15,600千円、間接経費: 4,680千円); 2009年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円); 2008年度: 15,990千円 (直接経費: 12,300千円、間接経費: 3,690千円)
• キーワード: 薄膜トランジスタ / ゲルマニウム / シリコンゲルマニウム / 回転マグネットスパッタ / マグネトロンスパッタ

研究概要

高性能液晶ディスプレイに用いるゲルマニウム系薄膜トランジスタの実現を目指し、シリコンゲルマニウム、ゲルマニウムの薄膜をマグネトロンスパッタにより成膜した。アルゴンプラズマの成膜では、基板温度250℃以上で結晶化し、アルゴン水素プラズマによる反応性スパッタでは結晶化が阻害されアモルファス膜が得られた。トランジスタを試作した結果、結晶化した薄膜はトランジスタ動作をせず、反応性スパッタによるゲルマニウム薄膜ではトランジスタ動作することを見出した。

研究成果

• [雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering: Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization (2009)
  • 著者名/発表者名: Tetsuya Goto, Takaaki Matsuoka, Tadahiro Ohmi
  • 雑誌名: Journal of Vacuum Science & Technology A,, J. Vac. Sci. Technol. A 27 ページ: 653-659
  • 査読あり
• [雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si1-xGex by RF Magnetron Sputtering on SiO2 Substrates (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys. 48
  • 査読あり
• [雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering : Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization (2009)
  • 著者名/発表者名: T.Goto, 他
  • 雑誌名: Journal of Vacuum Science and Technology A 27 ページ: 653-659
  • 査読あり
• [雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si1-xGex by RF Magnetron Sputtering on SiO_2 Substrates (2009)
  • 著者名/発表者名: A.Hiroe, T.Goto, 他
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 48
  • 査読あり
• [雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si_1-xGex by RF Magnetron Sputtering on Si0_2 Substrates (2009)
  • 著者名/発表者名: A. Hiroe, T. Goto, 他
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 48 (In the press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microcrystalline Si1-xGex Deposited by Magnetron Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: A. Hiroe, T. Goto, A. Teramoto,, T. Ohmi
  • 雑誌名: ECS Transactions Thin Film Transistors Vol.16No.9 ページ: 183-192
  • 査読あり
• [学会発表] Damage-Free, Uniform and High-Target-Utilization Novel Magnetron Sputtering Plasma Source by Rotating Helical Magnet (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Goto, N. Seki, T. Matsuoka, T. Ohmi
  • 学会等名: AVS 56th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: San Jose
  • 年月日: 2009-11-12
• [学会発表] Damage-Free, Uniform and High-Target-Utilization Novel Magnetron Sputtering Plasma Source by Rotating Helical Magnet (2009)
  • 著者名/発表者名: T.Goto, N.Seki, T.Matsuoka, T.Ohmi
  • 学会等名: AVS 56th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: San Jose, USA
  • 年月日: 2009-11-12
• [学会発表] Micro Crystalline Si1-xGex Deposited by Magnetron Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
  • 学会等名: PACIFIC RIM MEETING ON ELECTROCHEMICAL AND SOLID-STATE SCIENCE (PRiME2008)The Electrochemical Society, Meeting Abstracts
  • 発表場所: Honolulu, Hawaii(CD-ROM)
  • 年月日: 2008-10-14
• [学会発表] μc- Si1-xGex Deposition on SiO2 by RF Magnetron Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
  • 学会等名: Extended Abstracts of the 2008 International Conference on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS
  • 発表場所: Tsukuba
  • 年月日: 2008-09-25
• [学会発表] μc-Si_<1-x>Ge_x Deposition on SiO_2 by RF Magnetron Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: A. Hiroe, T. Goto, 他
  • 学会等名: 2008 International Conference on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS
  • 発表場所: つくば市
  • 年月日: 2008-09-25
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-30
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-29
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-23
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-22
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-17
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-16
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-16
• [産業財産権] 回転マグネットスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 大見忠弘、後藤哲也
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 産業財産権番号: 2009-118169
  • 出願年月日: 2009-05-15
• [産業財産権] 回転マグネットスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 産業財産権番号: 2009-118169
  • 出願年月日: 2009-05-15
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-16
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-16
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-17
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-22
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-22
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-29
  • 外国
• [産業財産権] マグネトロンスパッタ装置 (2009)
  • 発明者名: 後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
  • 権利者名: 東北大学、東京エレクトロン(株)
  • 出願年月日: 2009-09-30
  • 外国