研究課題/領域番号 |
20750085
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
高分子化学
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
竹内 大介 東京工業大学, 資源化学研究所, 准教授 (90311662)
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研究期間 (年度) |
2008 – 2009
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研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2009年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2008年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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キーワード | 高分子合成 / 遷移金属触媒重合 / ジェン / 環化重合 / 異性化重合 / パラジウム錯体 / シクロオレフィン / 液晶高分子 / 立体規則性重合 / ジエン |
研究概要 |
従来の重合法では側鎖官能基の平均的な密度の制御された高分子の合成は比較的容易であるが、その分布を完全に制御することは不可能であった。本研究ではジイミン配位子を有するパラジウム錯体によるジエンの環化異性化重合を利用し、様々な官能基の密度、分布が完全に制御された高分子の合成に成功した。さらに新しい付加異性化重合により液晶性を示す新構造ポリマーを創製することに成功した。
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