サーファクタント効果による選択的な高融点金属シリサイド形成過程のリアルタイム解析

• 研究課題/領域番号: 20760021
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 薄膜・表面界面物性
• 研究機関: 横浜国立大学
• 研究代表者: 大野 真也 横浜国立大学, 工学研究院, 特別研究教員 (00377095)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2009
• 研究課題ステータス: 完了 (2009年度)
• 配分額: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円); 2009年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2008年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
• キーワード: 表面・界面物性 / シリコン / 酸化反応 / シリサイド / 光電子分光 / 走査トンネル顕微鏡

研究概要

本研究の目的は、酸素や水素が介在するサーファクタント効果により高融点金属のシリサイド形成過程がどのように変化するのかを考察することである。平成20年度は、主に走査トンネル顕微鏡を用いた高温観察によりSi(001)表面においてチタンと酸素が共存することにより欠陥形成が誘起されることを明らかにした。平成21年度は、主に光電子分光を用いてSi(001), Si(311), Si(120)の各面方位におけるチタンシリサイド形成への酸素の影響を系統的に調べた。

研究成果

• [雑誌論文] Reaction kinetics in the rapid oxide growth on Si(001)-(2x1) probed with reflectance difference spectroscopy (2010)
  • 著者名/発表者名: S. Ohno, T. Ochiai, M. Morimoto, T. Suzuki, K. Shudo, M. Tanaka
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys. (in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Reaction kinetics in the rapid oxide growth on Si(001)-(2x1)probed with reflectance difference spectroscopy (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Ohno
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 49(in press.)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Modification by H-termination in growth process of titanium silicide on Si(001)-(2x1) observed with scanning tunneling microscopy (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Aoki, K. Shudo, K. Sato, S. Ohno, H. Nishioka, T. Iida, M. Toramaru, M. Tanaka
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci. 256 ページ: 1191-1195
  • 査読あり
• [雑誌論文] 酸素存在下におけるSi(001)-(2x1)上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察 (2009)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和成, 首藤健一, 青木健志, 飯田貴則, 西岡広明, 寅丸雅光, 大野真也, 田中正俊
  • 雑誌名: J. Vac. Soc. Jpn. 52 ページ: 461-464
  • 査読あり
• [雑誌論文] Modification by H-termination in growth process of titanium silicide on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy (2009)
  • 著者名/発表者名: T.Aoki
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci. 256 ページ: 1191-1195
  • 査読あり
• [雑誌論文] 酸素存在下におけるSi(001)00-2x1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察 (2009)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和成
  • 雑誌名: J.Vac.Soc.Jpn. 52 ページ: 461-464
  • 査読あり
• [学会発表] 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)酸化膜形成過程と酸窒化膜形成過程のリアルタイム観測 (2010)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 三戸部史岳, 小泉順也, 落合俊之, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: 応用物理学会
  • 発表場所: 東海大学湘南キャンパス
• [学会発表] 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)酸化膜形成過程と酸窒化膜形成過程のリアルタイム観測 (2010)
  • 著者名/発表者名: 大野真也
  • 学会等名: 応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 東海大学湘南キャンパス
• [学会発表] 酸素吸着Ti/Si表面における高温酸化状態の面方位依存性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 市川雄一, 島津知彦, 大野真也, 首藤健一, 原沢あゆみ, 柿崎明人, 田中正俊
  • 学会等名: 真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 学習院大学
• [学会発表] 反射分光によるSi(001)表面における酸化過程と酸窒化過程の比較検討 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 落合俊之, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: 真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 学習院大学
• [学会発表] 酸化Ti/Si表面ナノ構造のSTM/STS測定 (2009)
  • 著者名/発表者名: 青木健志, 首藤健一, 佐藤和成, 大野真也, 田中正俊
  • 学会等名: 真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 学習院大学
• [学会発表] Real-time observation of NO reaction processes on Si(001)-(2x1) studied by means of surface reflectance spectroscopy 11th International Conference on Electronic Spectroscopy & Structure (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 落合俊之, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: Nara
  • 発表場所: Japan
• [学会発表] 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 山崎紀明, 中山史人, 市川雄一, 佐藤和成, 青木健志, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: II日本物理学会
  • 発表場所: 熊本大学黒髪キャンパス
• [学会発表] Ti/Si表面のナノ構造と局所電子状態 (2009)
  • 著者名/発表者名: 青木健志, 首藤健一, 佐藤和成, 大野真也, 田中正俊
  • 学会等名: 応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 富山大学
• [学会発表] The effect of oxygen adsorption on titanium silicide formation on Si(001)-(2x1) European Conference on Surface Science(ECOSS26) (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 山崎紀明, 中山史人, 市川雄一, 佐藤和成, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: Parma
  • 発表場所: Italy
• [学会発表] Si(001)表面におけるO2, NO, CO反応過程のリアルタイム光学計測 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 落合俊之, 小泉順也, 三戸部史岳, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: 応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 筑波大学筑波キャンパス
• [学会発表] Si(001)表面におけるNO吸着構造の反射分光による解析 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 落合俊之, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 立教大学池袋キャンパス
• [学会発表] Si(001)表面におけるO2, NO, CO反応過程の反射分光による検討 (2009)
  • 著者名/発表者名: 落合俊之, 大野真也, 三戸部史岳, 小泉順也, 鈴木隆則, 首藤健一, 田中正俊
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 立教大学池袋キャンパス
• [学会発表] Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程の反射分光による検討 (2009)
  • 著者名/発表者名: 落合俊之
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 立教大学池袋キャンパス
• [学会発表] Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程のリアルタイム光学計測 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也
  • 学会等名: 応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 筑波大学筑波キャンパス
• [学会発表] The effect of oxygen adsorption on titanium silicide formation on Si(001)-(2x1) (2009)
  • 著者名/発表者名: S.Ohno
  • 学会等名: European Conference on Surface Science(ECOSS26)
  • 発表場所: Parma, Italy
• [学会発表] 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態II (2009)
  • 著者名/発表者名: 大野真也
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 熊本大学黒髪キャンパス
• [学会発表] Real-time observation of NO reaction processes on Si(001)-(2x1)studied by means of surface reflectance spectroscopy (2009)
  • 著者名/発表者名: S.Ohno
  • 学会等名: 11th International Conference on Electronic Spect roscopy & Structure
  • 発表場所: Nara, Japan
• [学会発表] Electronic states of titanium silicide and titamum-silicon-oxide on Si(001) (2008)
  • 著者名/発表者名: 中山史人
  • 学会等名: International Symposium on Surface Science and Nanotechnology (ISSS-5)
  • 発表場所: 早稲田大学
  • 年月日: 2008-11-11
• [学会発表] STM observation of titanium silicide formation on Si(001)-2x1 in the presence of oxygen (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和成
  • 学会等名: International Symposium on Surface Science and Nanotechnology (ISSS-5)
  • 発表場所: 早稲由大学
  • 年月日: 2008-11-10
• [学会発表] Modification of titanium silicide growth by H-termination on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy (2008)
  • 著者名/発表者名: 青木健志
  • 学会等名: 4^<th> Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia(VASSCAA-4)
  • 発表場所: くにびきメッセ松江市
  • 年月日: 2008-10-29
• [学会発表] Effect of oxygen coadsorption on titanium silicide fomation on Si(001) studied with photoemission spectroscopy (2008)
  • 著者名/発表者名: 山崎紀明
  • 学会等名: 4^<th> Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia(VASSCAA-4)
  • 発表場所: くにびきメッセ松江市
  • 年月日: 2008-10-28
• [学会発表] 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態 (2008)
  • 著者名/発表者名: 大野真也
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 岩手大学
  • 年月日: 2008-09-22
• [学会発表] Si(001)表面におけるTiシリサイド形成過程へのサーファクタント効果の検討 (2008)
  • 著者名/発表者名: 山崎紀明
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 岩手大学
  • 年月日: 2008-09-22
• [学会発表] Electronic states of titanium silicide and titanium-silicon-oxide on Si(001) International Symposium on Surface Science and Nanotechnology (ISSS-5) (2008)
  • 著者名/発表者名: 中山史人, 山崎紀明, 大野真也, 寅丸雅光, 市川雄一, 山崎貴彦, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: International Conference Center, Waseda University
  • 発表場所: Tokyo
• [学会発表] STM observation of titanium silicide formation on Si(001)-2x1 in the presence of oxygen International Symposium on Surface Science and Nanotechnology (ISSS-5) (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和成, 寅丸雅光, 飯田貴則, 青木健志, 西岡広明, 首藤健一, 大野真也, 田中正俊
  • 学会等名: International Conference Center, Waseda University
  • 発表場所: Tokyo
• [学会発表] 酸素存在下におけるSi(001)-2x1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和成, 飯田貴則, 西岡広明, 青木健志, 首藤健一, 大野真也, 田中正俊
  • 学会等名: 真空に関する連合講演会
  • 発表場所: くにびきメッセ松江市
• [学会発表] Modification of titanium silicide growth by H-termination on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy 4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia(VASSCAA-4) (2008)
  • 著者名/発表者名: 青木健志, 佐藤和成, 西岡広明, 飯田貴則, 首藤健一, 大野真也, 田中正俊
  • 学会等名: Matsue
  • 発表場所: Japan
• [学会発表] Effect of oxygen coadsorption on titanium silicide formation on Si(001) studied with photoemission spectroscopy 4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia(VASSCAA-4) (2008)
  • 著者名/発表者名: 山崎紀明, 中山史人, 大野真也, 寅丸雅光, 市川雄一, 山崎貴彦, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: Matsue
  • 発表場所: Japan
• [学会発表] Si(001)表面におけるTiシリサイド形成過程へのサーファクタント効果の検討 (2008)
  • 著者名/発表者名: 山崎紀明, 中山史人, 大野真也, 寅丸雅光, 市川雄一, 山崎貴彦, 飯田貴則, 佐藤和成, 青木健志, 西岡広明, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 岩手大学上田キャンパス
• [学会発表] 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態 (2008)
  • 著者名/発表者名: 大野真也, 寅丸雅光, 飯田貴則, 佐藤和成, 青木健志, 山崎紀明, 中山史人, 市川雄一, 山崎貴彦, 首藤健一, 田中正俊, 奥田太一, 原沢あゆみ, 松田巌, 柿崎明人
  • 学会等名: 日本物理学会
  • 発表場所: 手大学上田キャンパス