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酸素空孔分布のトポロジー制御を機能原理とするヘテロシナプスプラットフォームの創生

研究課題

研究課題/領域番号 20H00248
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分21:電気電子工学およびその関連分野
研究機関大阪大学

研究代表者

酒井 朗  大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 教授 (20314031)

研究期間 (年度) 2020-04-01 – 2024-03-31
研究課題ステータス 完了 (2023年度)
配分額 *注記
45,760千円 (直接経費: 35,200千円、間接経費: 10,560千円)
2023年度: 7,020千円 (直接経費: 5,400千円、間接経費: 1,620千円)
2022年度: 5,850千円 (直接経費: 4,500千円、間接経費: 1,350千円)
2021年度: 10,660千円 (直接経費: 8,200千円、間接経費: 2,460千円)
2020年度: 22,230千円 (直接経費: 17,100千円、間接経費: 5,130千円)
キーワードメモリスタ / ヘテロシナプス / 4端子 / ニューラルネットワーク / 酸素空孔 / 高温動作 / クロスバー構造 / パブロフ型条件付け連合学習 / 4端子クロスバー構造 / ゲートチューニング / コンダクタンス / パブロフ型条件付け / 多ビット信号 / 多端子クロスバーアレイ / ニューロモルフィック / 4端子平面型素子 / コンダクタンス変調 / 興奮性主ニューロン / 抑制性介在ニューロン / パルスレーザー蒸着法 / 有限要素法シミュレーション / ドーパント / ドリフト・拡散
研究開始時の研究の概要

本研究においては、高次の脳機能を発現するニューロモルフィックチップの実現に向けて、メモリスタ物質内の酸素空孔分布トポロジーを自在に制御できる多端子クロスバーアレイ構造を開発し、他のシナプスと多次元で結び付いたヘテロシナプス素子を基幹とするデバイス・回路基盤「ヘテロシナプスプラットフォーム」を創製する。酸素空孔挙動の実験・理論解析およびシミュレーションに基づいてトポロジーの制御指針を獲得し、多入力・多出力の高次ヘテロシナプス特性を発現させる。また、集積化構造としての特徴を活かし、条件刺激と無条件刺激に対応する連合学習機能を実証する。

研究成果の概要

高次脳機能を発現するAIハードウェアの実現に向けて、メモリスタ物質中の酸素空孔分布のトポロジー制御を機能原理とし、他のシナプスと多次元で結び付いたヘテロシナプスからなるデバイス・回路基盤の創生を目指した。還元性アモルファス酸化ガリウム及び酸化チタニウム薄膜を対象に、酸素空孔挙動の実験的・理論的解析を展開し、電気伝導・抵抗変化機構を解明した。2端子キャパシタ型・平面型・クロスバー型、4端子平面型・クロスバー型で多様な次元・ジオメトリでの電界印加が可能なメモリスタを開発することで、人工シナプス素子としてのシナプス重みのゲート変調や連合学習などの高次脳機能を模倣するプラットフォームの構築に成功した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究はメモリスタ内の酸素空孔分布トポロジーの変調によって、多様な抵抗状態・抵抗遷移を発現させることに独自性があり、酸素空孔の電界下挙動に関して獲得された学術的知見は、材料種によらないコモンメカニズムの理解に通じ、不純物イオンを切り口にした創造的な素子設計指針へと展開できる。また、還元性酸化ガリウムメモリスタで600Kまでの高温動作が実証された成果は新たな次元の産業応用へ繋げられる。さらに、新たに開発された4端子クロスバー型メモリスタは、高度の集積化が可能な構造を有していることから、連合学習等の高次脳機能を模倣できる次世代AIハードウェアへ展開でき、その社会的意義は大きい。

報告書

(6件)
  • 2023 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2022 実績報告書
  • 2021 実績報告書
  • 2020 審査結果の所見   実績報告書
  • 研究成果

    (33件)

すべて 2024 2023 2022 2021 2020 その他

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件、 オープンアクセス 3件) 学会発表 (25件) (うち国際学会 9件、 招待講演 2件) 備考 (2件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Gate-tunable plasticity in artificial synaptic devices based on four-terminal amorphous gallium oxide memristors2023

    • 著者名/発表者名
      Ikeuchi Taishi、Hayashi Yusuke、Tohei Tetsuya、Sakai Akira
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 16 号: 1 ページ: 015509-015509

    • DOI

      10.35848/1882-0786/acb0ae

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Interface engineering of amorphous gallium oxide crossbar array memristors for neuromorphic computing2023

    • 著者名/発表者名
      Masaoka Naoki、Hayashi Yusuke、Tohei Tetsuya、Sakai Akira
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 62 号: SC ページ: SC1035-SC1035

    • DOI

      10.35848/1347-4065/acb060

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-temperature operation of gallium oxide memristors up to 600?K2023

    • 著者名/発表者名
      Sato Kento、Hayashi Yusuke、Masaoka Naoki、Tohei Tetsuya、Sakai Akira
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 13 号: 1

    • DOI

      10.1038/s41598-023-28075-4

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Versatile Functionality of Four-Terminal TiO2-x Memristive Devices as Artificial Synapses for Neuromorphic Computing2022

    • 著者名/発表者名
      Ryotaro Miyake, Zenya Nagata, Kenta Adachi, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 雑誌名

      ACS Applied Electronic Materials

      巻: - 号: 5 ページ: 2326-2336

    • DOI

      10.1021/acsaelm.2c00161

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Fabrication of GaOx based crossbar array memristive devices and their resistive switching properties2020

    • 著者名/発表者名
      M. Joko, Y. Hayashi, T. Tohei, A. Sakai
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 59 号: SM ページ: SMMC03-SMMC03

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab8be6

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 4端子平面型TiO2-xメモリスタの微細化とパブロフ型条件付け次元拡張2024

    • 著者名/発表者名
      山本遼平、林侑介、藤平哲也、酒井朗
    • 学会等名
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] アモルファスGaOxを用いた4端子クロスバーアレイメモリスタの開発と抵抗変化特性2024

    • 著者名/発表者名
      山下真矢、林侑介、藤平哲也、酒井朗
    • 学会等名
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Implementation of Operant Conditioning in Four-Terminal Planar TiO2-x Memristive Devices2024

    • 著者名/発表者名
      Zijie Meng, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] その場TEMによる単結晶TiO2-xメモリスタ素子における剪断面形成機構の解析2023

    • 著者名/発表者名
      高田玲、藤平哲也、林侑介、酒井朗
    • 学会等名
      日本顕微鏡学会第79回学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Analysis of Shear Plane Formation Mechanism in Single Crystal TiO2-x Memristor by Using In-Situ TEM Observation2023

    • 著者名/発表者名
      Rei Takada, Tetsuya Tohei, Yusuke Hayashi, Akira Sakai
    • 学会等名
      International Workshop on Advanced and In-Situ Microscopies of Functional Nanomaterials and Devices (IAMNano) 2023
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Finite Element Analysis of Oxygen Vacancy Behavior in Four-Terminal TiO2-x Memristive Devices2023

    • 著者名/発表者名
      Yuki Koizumi, Ryotaro Miyake, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      2023 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 4端子平面型TiO2-xメモリスタにおける酸素空孔挙動の有限要素法解析2023

    • 著者名/発表者名
      小泉優紀、三宅亮太郎、林侑介、藤平哲也、酒井朗
    • 学会等名
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
  • [学会発表] Implementation of Pavlovian Conditioning with TiO2-x Miniaturized Four-Terminal Planar Memristors2023

    • 著者名/発表者名
      Ryohei Yamamoto, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      2023 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices -Science and Technology-
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] ルチル型TiO2中の剪断面構造及び酸素空孔挙動に関する第一原理計算2023

    • 著者名/発表者名
      二宮雅輝、藤平哲也、林侑介、酒井朗
    • 学会等名
      第70回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] First-Principles Analysis of Oxygen Vacancy Behavior in Rutile TiO2 under External Electric Fields2022

    • 著者名/発表者名
      Masaki Ninomiya, Yusuke Hayashi, Akira Sakai, Tetsuya Tohei
    • 学会等名
      9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Amorphous GaOx Crossbar Array Memristors for Artificial Synaptic Devices2022

    • 著者名/発表者名
      Naoki Masaoka, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      2022 International Conference on Solid-State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 第一原理計算によるルチル型TiO2中の剪断面構造及び酸素空孔挙動の解析2022

    • 著者名/発表者名
      二宮雅輝、藤平哲也、林侑介、酒井朗
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] 酸素空孔分布制御型メモリスタを用いた多機能人工シナプス2022

    • 著者名/発表者名
      酒井朗,藤平哲也,林侑介
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] GaOxメモリスタの抵抗スイッチング特性評価2022

    • 著者名/発表者名
      佐藤健人,林侑介, 藤平哲也,酒井朗
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 平面型TiO2-xメモリスタ素子における抵抗変化領域のその場TEM観察2022

    • 著者名/発表者名
      谷口奈穂,林侑介, 藤平哲也,酒井朗
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] アモルファスGaOxを用いたクロスバーアレイメモリスタの抵抗変化特性2022

    • 著者名/発表者名
      正岡直樹, 林侑介, 藤平哲也, 酒井朗
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] Heterosynaptic Property Demonstrated with Planer Four-Terminal Amorphous GaOx Memristive Devices2021

    • 著者名/発表者名
      Taishi Ikeuchi, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid-State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 第一原理計算手法に基づく外部電場下におけるルチル型TiO2中の酸素空孔挙動の解析2021

    • 著者名/発表者名
      二宮雅輝,藤平哲也,林侑介,酒井朗
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] Habituation and sensitization properties mimicked in four-terminal TiO2-x memristive devices2021

    • 著者名/発表者名
      K. Adachi, Y. Hayashi, T. Tohei, A. Sakai
    • 学会等名
      4th International Conference on Memristive Materials, Devices & Systems
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Pavlovian conditioning implemented in four-terminal TiO2-x memristive devices2021

    • 著者名/発表者名
      R. Miyake, K. Adachi, Y. Hayashi, T. Tetsuya, A. Sakai
    • 学会等名
      4th International Conference on Memristive Materials, Devices & Systems
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Temperature-Dependent Resistive Switching Properties of GaOx Memristors up to 600 K2021

    • 著者名/発表者名
      Kento Sato, Yusuke Hayashi, Tetsuya Tohei, Akira Sakai
    • 学会等名
      2021 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES ─ Science and Technology ─
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 4端子平面型アモルファスGaOxメモリスタ素子の開発と抵抗変化特性評価2021

    • 著者名/発表者名
      池内太志、林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 4端子平面型TiO2-xメモリスタ素子におけるゲート制御に基づくシナプス特性の変調2021

    • 著者名/発表者名
      安達健太、林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] アモルファス酸化ガリウムを用いたメモリスタの抵抗変化特性およびシナプス特性2020

    • 著者名/発表者名
      上甲守治、池内太志、林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 学会等名
      第81回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 4端子平面型 TiO2-xメモリスタ素子における酸素空孔分布2次元制御に基づくSTP・LTP特性の実装2020

    • 著者名/発表者名
      安達健太、三宅亮太郎、林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 学会等名
      第81回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [備考] 生体の脳・神経系により近い人工シナプス素子を開発 4端子メモリスタ素子が高度な脳・神経機能を実現

    • URL

      https://resou.osaka-u.ac.jp/ja/research/2022/20220428_1

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [備考] 300℃超の高温に耐えうる抵抗変化型メモリ素子を アモルファス酸化ガリウムで実現!

    • URL

      https://resou.osaka-u.ac.jp/ja/research/2023/20230130_1

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [産業財産権] メモリスタ、それを備えた半導体素子およびメモリスタを備えたアレイシステム2020

    • 発明者名
      林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 権利者名
      林 侑介、藤平哲也、酒井 朗
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2020-214807
    • 出願年月日
      2020
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書

URL: 

公開日: 2020-04-28   更新日: 2025-01-30  

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